CVD装置のカタログ一覧
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最終更新日：2012/05/21
半導体・真空装置用基板加熱機構 最大1800℃ 基板昇降・回転機構、RFバイアス印可可能
「半導体、電子基板成膜プロセス装置での高温基板加熱機構。」 ◉ 超高真空・酸素・水素雰囲気中・プロセスガス中での使用に対応 ◉ 基板Zシフト昇降、基板回転機構、及びRF/DCバイアス印可が可能。 …（つづきを見る）
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最終更新日：2012/05/21
基板加熱ヒーター（BN, Inc）
トッププレートにインコネル、又はBN（Boron Nitride）セラミックプレートを採用した、熱伝導率・熱放射効率の良い、均熱性に優れた成膜装置搭載・成膜実験用真空ホットプレートです。 ◉ CVD…（つづきを見る）
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最終更新日：2012/05/21
超高温Max1800℃。あらゆるプロセス条件に対応可能な基板加熱ヒーター。
「セラミックトップヒーター」は、ヒーターエレメントにNiCr線、トッププレートにAlN窒化アルミプレートを用いた、高温・加熱効率・均熱性に優れたホットプレートです。ヒーターエレメントは、NiCr、及び…（つづきを見る）
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最終更新日：2012/02/01
スーパータル
半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール ■□特徴□■ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能…（つづきを見る）
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最終更新日：2009/12/15
断熱材
幅広い分野で使用されているEガラス系断熱マットを基本に、半導体・樹脂成型・食品・医療関係で使用可能な、耐熱耐食にすぐれたPTFEを表面材質に選定し、縫製にて製作しております。
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最終更新日：2009/12/17
VP型ドライルーツ式 真空ポンプ VPシリーズ
独自の冷却技術を用いた 多段ルーツ式真空ポンプ 【特徴】 ○ルーツ式で大気圧から入口締切りまでの全域で 運転を実現し、使い易さを追求 ○ステンレス(SCS13.14.16)製真空ポン…（つづきを見る）
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最終更新日：2012/03/08
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最終更新日：2010/04/15
高精度ガスシステムセンサ モデル２２７シリーズ
セトラ社のモデル２２７は３００ｍｍウエハ製造プロセスに要求の高いＩＧＳ対応型のウルトラクリーンセンサで特に高集積型の１−１／８インチサイズに対応しています。２２７は他社製品と比較して小さな流線型のチャ…（つづきを見る）
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最終更新日：2012/01/12
コンピュータによる電磁界解析を中心としたＣＡＥ用ソフトウエアの開発・販売・サポートを行う株式会社ミューテックの製品カタログです。
誘導加熱は様々な機械装置で利用されています。クッキングのＩＨヒーティングお始め、機械加工、プレス、鋳造に至ります。課題は誘導加熱コイルが複雑な配置をしておりモデル定義が困難なこと、温度依存性を考慮した…（つづきを見る）
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最終更新日：2011/04/19
高濾過精度と耐蝕性で定評のセラミックフィルターとオールメタルフィルター
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製集積化ガスシステム対応ガスフィルターです。 製品特徴 ・高濾過精度で定評のあるセラミックスエレメントタイプ（0.003μm）と、メ…（つづきを見る）
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