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最終更新日:2014-11-07 15:49:58.0

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  • カタログ発行日:2014/11/07

Vacuum Sputtering Systemのカタログ

基本情報Vacuum Sputtering Systemのカタログ

真空Sputtering System設備 & Filmの前処理と結晶化設備の設計、製作、設置及び試運転。又設備の改造、移設。

1.Roll to Roll Sputtering System
Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。

2.In-Line Sputtering System
In-Line Sputtering Systemは平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備で連続的な大量生産に最適な競争力を持ちます。

3.Batch Type Sputtering System
Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。

4.Smart film Vacuum Conditioner
Smart film Vacuum Conditioner(SVC)はPET Filmの脱ガス・脱水分などの前処理及びFilmを無張力状態に加熱処理することで、Filmの熱収縮の調整(平坦化)、ITO膜の連続的な結晶化処理が可能な設備です。

Roll to Roll Sputtering System

Roll to Roll Sputtering System 製品画像

Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。

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In-Line Sputtering System

In-Line Sputtering System 製品画像

In-Line Sputter Systemは平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備で連続的な大量生産に最適な競争力を持ちます。


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Batch Type Sputtering System

Batch Type Sputtering System 製品画像

Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。

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Smart film Vacuum Conditioner

Smart film Vacuum Conditioner 製品画像

Smart film Vacuum Conditioner(SVC)はPET Filmの脱ガス・脱水分などの前処理及びFilmを無張力状態に加熱処理することで、Filmの熱収縮の調整(平坦化)、ITO膜の連続的な結晶化処理が可能な設備です。

■装備特徴
• Flimを無張力で熱処理して0.1%以下の極低熱収縮Filmを生産
• 均一な基板温度に加熱可能 (基材の平坦化)
• プラズマ区間(Treatment)がRewinding Chamberに位置してProcess Chamber•の高真空を維持
• Squeeze Valveを利用してProcess Chamberの真空を維持したまま、Winding Chamber Vent 及びFilmを交替

* 委託加工可能 (詳細を見る

取扱会社 Vacuum Sputtering Systemのカタログ

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1.Roll to Roll Sputtering System Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。 2.In-Line Sputtering System In-Line Sputtering Systemは平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備で連続的な大量生産に最適な競争力を持ちます。 3.Batch Type Sputtering System Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。 4.Smart film Vacuum Conditioner Smart film Vacuum Conditioner(SVC)はPET Filmの脱ガス・脱水分などの前処理及びFilmを無張力状態に加熱処理することで、Filmの熱収縮の調整(平坦化)、ITO膜の連続的な結晶化処理が可能な設備です。

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