真空蒸着システム

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基本情報真空蒸着システム

真空蒸着システム

プラズマを利用したＣＶＤで、source gas　などで分解させ、そこで発生する
グロー放電を利用する薄膜合成法です。

Glow discharge を起こさせるために、0〜13.56MHzの多様な周波数領域の
powerを利用します。

■□■メリット■□■
■高純度フィルムの形成が可能

■Source Gas によって多様な薄膜の形成が可能

■大面積をコーティングする時にも、均一なuniformityと高い蒸着率

■CONTROLが簡単で、大量処理が可能

■薄膜蒸着における低い工程温度

●その他詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい●

真空蒸着システム　Linear Ion Source

大部分の不活性ガス及び活性ガスの一部などで簡単にイオンが得られる、真空蒸着システム（詳細を見る）

真空蒸着システム　UBM Sputter

内部磁石と外部磁石の磁場の強さを異なるように設計し、
スパッタの効率を増大させた、真空蒸着システム（詳細を見る）

真空蒸着システム　ＰＥＣＶＤ

高純度フィルムの形成が可能な、真空蒸着システム（詳細を見る）

真空蒸着システム　FCVA

アーク蒸着で最も問題になるのは、イオンと一緒に発生されるμmの大きさの
dropletです。

（詳細を見る）

取扱会社真空蒸着システム

パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所

●工業薬品（塩浴剤、熱処理防止剤等） ●プラント（真空浸炭、オーステンパー設備、ガス窒化（軟窒化）他 ●表面処理加工（イソナイト処理、真空浸炭、各種表面処理加工））

公式サイト

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