有限会社フリーダム:カタログ一覧

安定したSiCヒータを採用し試料に温度傾斜を与える事ができる加熱装置。 常用500℃で約300℃の温度傾斜があります。

傾斜温度加熱装置SI-800は加熱試料に温度傾斜を与える事ができる加熱装置です。常用500℃で約300℃の熱傾斜が得られます。本装置を用いる事で結晶化温度の研究評価等を効率的に行う事ができます。また、…（つづきを見る）

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製品ダイジェスト 光学レーザー機器及び真空製膜機器

製品ダイジェスト 光学レーザー機器及び真空製膜機器

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フリーダムの真空技術 ユニークな真空機器のダイジェストカタログ

フリーダムの真空技術 ユニークな真空機器のダイジェストカタログ

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目的の物性を有する新材料を早く探し出すことができます。 新材料、機能薄膜を1000倍の効率で探索できます。

特長 ○ 新規金属系材料の探索効率を1000倍と飛躍的に高めます。 ○ アークプラズマガンを採用したパルス蒸着により、1回の成膜プロセス　で組成傾斜膜を作製できます。 ○ MEMSプロセスにより…（つづきを見る）

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コンビナトリアル技術を応用した高耐食性薄膜の探索とダイヤフラム真空センサへの応用

コンビナトリアル技術を応用した高耐食性薄膜の探索とダイヤフラム真空センサへの応用

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コンビナトリアルアークプラズマ蒸着による新しいアモルファス薄膜の創生とその応用

コンビナトリアルアークプラズマ蒸着による新しいアモルファス薄膜の創生とその応用

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マイクロマシン技術とコンビナトリアル技術の融合 アモルファス合金の探索

マイクロマシン技術とコンビナトリアル技術の融合 アモルファス合金の探索

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レーザーアブレーション装置　PLD-2000

本機は高性能かつコンパクトでしかも低価格のパルスレーザーアブレーション装置です。 研究開発用途を目的にチャンバーは自由度の多い設計になっています。 レーザー光源として安定した空冷ＹＡＧレーザーを採…（つづきを見る）

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安定したSiCヒータを採用しており1000℃以上の高温加熱回転が可能です。

○安定したSiCヒータを採用しています。 ○1000℃以上の高温加熱が可能です。 ○均熱性が良いヒータ構造です。 ○酸素ガス雰囲気でも使用可能。 ○アウトガスが少なく高真空対応可能。 オプシ…（つづきを見る）

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原子層成膜ADCVD

真空チャンバーでウェハを加熱、メタルオーガニックガスを導入し飽和表面反応を利用した原子 層成膜CVDを行う装置です。通常の熱CVD装置としても使用できます。

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気化器VU-206

・液体マスフロメータとの組み合わせにより各種液体材　料を精密流量制御すると同時に高効率で気化します。 （液体気化供給器） ・ピエゾバルブ採用 ・常圧プロセスから減圧プロセスまで対応。 ・最高2…（つづきを見る）

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各種薬液、無機・有機溶媒、有機化合物溶液、高純度水の精密流量制御 1g/mim以下の微少流量精密制御に最適

各種薬液、無機・有機溶媒、有機化合物溶液、高純度水の精密流量制御 1g/mim(エタノール換算)以下の微少流量精密制御に最適 ○独自の周囲温度補償方式の流量センサによる長期流量安定 ○コンパクト…（つづきを見る）

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液体用マスフローメータLM-2302

本器は各種液体材料の高精度流量計測を実現した液体用マスフローメータです。

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各種気体を高精度・高速応答に制御するアナログＭＦＣ ラバーシール採用の低コストモデル

○低コスト・高精度・高速応答のアナログMFC ○全流量域高速応答　1sec以内 ○低流量での応答性を大幅に改善 ○高精度(±１％F.S.)モデル ○ラバーシール採用の低コストモデル

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