最終更新日:2011/11/24
ゆうげんがいしゃふりーだむ
有限会社フリーダム
業種:電子部品・半導体 所在地:神奈川県 横浜市都筑区 加賀原1−24−6−206
19件中1〜15件を表示中
最終更新日:2011/08/31
コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置
目的の物性を有する新材料を早く探し出すことができます。 新材料、機能薄膜を1000倍の効率で探索できます。
特長 ○ 新規金属系材料の探索効率を1000倍と飛躍的に高めます。 ○ アークプラズマガンを採用したパルス蒸着により、1回の成膜プロセス で組成傾斜膜を作製できます。 ○ MEMSプロセスにより…(つづきを見る)
最終更新日:2011/11/22
傾斜温度加熱装置
安定したSiCヒータを採用し試料に温度傾斜を与える事ができる加熱装置。 常用500℃で約300℃の温度傾斜があります。
傾斜温度加熱装置SI-800は加熱試料に温度傾斜を与える事ができる加熱装置です. 常用500℃で約300℃の熱傾斜が得られます。本装置を用いる事で結晶化温度の研究評価等 を効率的に行う事ができます…(つづきを見る)
最終更新日:2011/09/08
レーザーアブレーション装置 PLD-2000
高性能、コンパクト、低価格のパルスレーザーアブレション成膜装置。 安定したYAGレーザーを採用。
○ SiCヒータを採用し1000℃の高温加熱を実現 ○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能 ○ メンテナンスの容易なYAGレーザーを採用 ○ スパッタ、蒸着およびMBE装置へも拡張…(つづきを見る)
SiC基板加熱回転機構
安定したSiCヒータを採用しており1000℃以上の高温加熱回転が可能です。
○安定したSiCヒータを採用しています。 ○1000℃以上の高温加熱が可能です。 ○均熱性が良いヒータ構造です。 ○酸素ガス雰囲気でも使用可能。 ○アウトガスが少なく高真空対応可能。 オプシ…(つづきを見る)
最終更新日:2011/08/30
原子層成膜装置 ALCVD
飽和表面反応を利用した原子層成膜装置、原子層を1層ごとに成膜できます。
真空チャンバーでウェハを加熱、メタルオーガニックガスを導入し飽和表面反応を利用した原子 層成膜CVDを行う装置です。通常の熱CVD装置としても使用できます。
最終更新日:2011/08/29
気化器
液体マスフロメータとの組み合わせにより各種液体材料を精密流量制御すると同時に高効率で気化。 (液体気化供給器)
・液体マスフロメータとの組み合わせにより各種液体材料を精密流量制御すると同時に高効率で気化。 (液体気化供給器) ・ピエゾバルブ採用 ・常圧プロセスから減圧プロセスまで対応。 ・最高200℃の…(つづきを見る)
液体マスフローコントローラ LC-3000
各種液体材料を精密流量制御します。 1g/min(C2H5OH換算)以下の微少流量精密制御に最適
特徴 ・リンテック独自の周囲温度補償方式の流量センサによる長期流量安定 ・ボディ面幅28.6mm、バルブ一体型構造のコンパクト設計 ・汎用デジタルインターフェイスを装備(RS485 準拠) …(つづきを見る)
最終更新日:2012/05/07
液体マスフローメータ
各種液体材料の高精度流量計測を実現した、液体マスフローメータです。気化器と組み合わせて液体気化供給システムを提供します。
各種液体材料の高精度流量計測を実現した、液体マスフローメータです。 気化器と組み合わせて液体気化供給システムを提供します。 各種液体材料を正確に流量制御し、同時に完全気化させる事ができます。 ○…(つづきを見る)
マスフローコントローラ MC‐1000
各種気体を高精度・高速応答に制御するアナログMFC ラバーシール採用の低コストモデル
○低コスト・高精度・高速応答のアナログMFC ○全流量域高速応答 1sec以内 ○低流量での応答性を大幅に改善 ○高精度(±1%F.S.)モデル ○ラバーシール採用の低コストモデル
グローブボックス
各真空装置との接続により大気にさらすことなく連続処理が可能です。
グローブボックスシステムは不活性ガスの雰囲気で水分、酸素量が1ppm以下に保たれるように設計されています。各真空装置との接続により大気にさらすことなく連続処理が可能です。
LED発光特性評価装置
LED等の発光デバイスの発光特性評価を手軽に行えます。 積分球プローバーを採用し全方位の光束を正確に測定。
○ LEDや光デバイスの発光強度、分光特性および照度等を簡単に測定でき ます。 ○ 積分球プローバーで微小なデバイスからφ5インチウェハまでの試料 測定に対応できます。 ○ パルス発光…(つづきを見る)
マニュアルプローバ
高精度で低価格を実現したマニュアルプローバ 金属顕微鏡を搭載、堅牢な設計。
本装置は、高精度で低価格を実現したマニュアルプローバーです。半導体デバイスの微小なパッドにプローブ針を立て、デバイスの電気的特性試験を行います。金属顕微鏡を実装し微小サイズ(10mm角)からφ5インチ…(つづきを見る)
最終更新日:2010/09/24
光デバイス検査顕微鏡
紫外から近赤外まで各波長のレーザーを照射し光デバイスの性能評価に最適
フォトディテクターなどの光デバイスの性能評価解析に最適な顕微鏡です。光ファイバーLD光 源でレーザー光を最小径1μmのスポットで照射します。光源は紫外域から近赤外域までいろ いろな波長があります。…(つづきを見る)
最終更新日:2012/02/14
レーザートリミング装置
φ8、φ6インチウェハ上の特定位置を加工線幅1μmで正確にトリミングします。
〇 φ8、φ6インチウェハおよび200角基板対応自動機。 〇 加工線幅1μmで正確にトリミングします。 〇 金属膜、有機フィルムなど幅広い材料の加工ができます。 〇 YAG第4高調波266nmを…(つづきを見る)
デバイス欠陥マーカー
最小線幅1μmでデバイス欠陥位置にマーキング。 トリミングや微細電子回路のダイレクト加工が可能
本機ではデバイス欠陥位置を最小線幅1μmでマーキングしFIBで正確な試料位置を切出す 事が可能です。専用のデバイス欠陥マーキングソフトを用意しオートプローバー等の検査装置 から得られるデバイス欠陥…(つづきを見る)
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