最終更新日:2010/11/04
にほんかにぜんかぶしきがいしゃ
日本カニゼン株式会社
業種:製造・加工受託 所在地:東京都 足立区 宮城1-35-11
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最終更新日:2011/05/18
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最終更新日:2010/10/01
厚均一性・高耐蝕性高硬度。広範囲の工業製品に使用可能。
耐触性のよいニッケル燐合金のコーティングを化学的反応によって形成! 厚均一性・高耐蝕性・高硬度で広範囲の工業製品に使用可能な無電解めっき 【特徴】 ○母材の形状に関係なくめっき皮膜は均一なつ…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/05/18
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最終更新日:2010/10/01
摺動部品用皮膜「カニハステ」
析出時の高硬度(Hv770)と高温環境下での高硬度(300℃下でHv560)を 両立させたNi(ニッケル)-Co(コバルト)-W(タングステン)-P(リン)合金の 無電解めっき皮膜 【特徴】…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/05/18
無電解黒色ニッケルめっき「カニブラック」
被めっき物をめっき浴中に浸漬させると、瞬間的に黒色皮膜が表面に生成され、 時間と共に黒色皮膜が連続的に成長し、必要な膜厚を得ることができる自己触媒反応のめっき
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最終更新日:2009/12/24
無電解Ni-P/PTFE複合めっき液「カニフロンPbフリーSEF-150シリーズ」
無電解Ni-P皮膜中にサブミクロンPTFE粒子が一様に分散した 複合皮膜(カニフロン(R))を形成するPbフリータイプめっき 【特徴】 ○選択可能なPTFE含有率 ・含有率が高いものからS…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
抵抗体用めっき液「EPR-1」
低TCR値の薄膜抵抗体を形成!抵抗体用めっき液 【特徴】 ○析出皮膜のTCR値(抵抗温度係数):10〜30ppm/℃(25〜125℃) ○比抵抗値:約120μΩ・cm ○皮膜靭性が高いため…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
無電解Ni-P/めっき液「低リンクタイプPbフリーSEK-797」
ELV・WEEE・RoHS対応!無電解Ni-Pめっき液 【特徴】 ○耐摩耗性、高硬度、導電性が良い ○皮膜中のリン含有率(wt%):1〜2 ○めっき速度(μm/hr):14〜20 ○析出…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
鉛フリーカニゼンめっき液「シューマー(R)SEK-670」
特定有害物質(Pb,Cd,Cr6+,Hg)を全く含まない環境対応型電解めっき液 【特徴】 ○ELV・WEEE及びRoHS指令対応 ○めっき液の管理方法や処理能力等、従来の鉛含有めっき液とほぼ…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
鉛フリーカニゼンめっき液「シューマー(R)SEK-660」
特定有害物質(Pb,Cd,Cr6+,Hg)を全く含まない環境対応型電解めっき液 【特徴】 ○ELV・WEEE及びRoHS指令対応 ○めっき液の管理方法や処理能力等、従来の鉛含有めっき液とほぼ…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
前後処理液剤シリーズ
日本カニゼン社は、効果的にカニゼン社のめっき液を使えるように、 前処理・後処理・設備を含めたトータルコンサルティングを行っています。 【活躍事例】 ■エレクトロニクス分野用 ・電子部品、基…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
環境対応型 無電解めっき液
日本カニゼン社では、年々厳しくなる環境規制に対応し、 無電解めっき液を各種取り揃えています。 【ラインナップ】 ○鉛レスタイプめっき液 ○鉛レスフリータイプめっき液(Pb不使用めっき液) …(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
無電解Pdめっき液「S-KPD」
薄く均一なPd皮膜を主に、Ni基材上に形成することを 目的に開発された無電解Pdめっき液 【特徴】 ○薄い膜厚においても下地に対する皮覆性に優れる ○析出速度が一定なので、ナノオーダーでの…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
リードフレーム用脱脂剤
各種無電解めっき加工、各種無電解めっき液の製造・販売、 無電解めっきプラントの設計・販売を行っている 日本カニゼン社が取り扱う『リードフレーム用脱脂剤』 【特徴】 ○K-360 ・低泡性…(つづきを見る)
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最終更新日:2009/12/24
セラミック基板へのめっきプロセス
無電解めっきのパイオニア、日本カニゼン社 『セラミック基板へのめっきプロセス』のご案内です。 1.アルカリ脱脂液『K-380』 ※界面活性剤を含まない洗浄性に優れたクリーナー 2.エッ…(つづきを見る)












































