ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減！ウェット洗浄に比べて大幅な時間短縮！
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。
パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。
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【特徴】
●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適
●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。
●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。
●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要
●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！
●作業者に負担のかからない安全設計。
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基本情報GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中！】
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | MCD6550 |
| 用途／実績例 | ◇◆当社では、生産設備へのスケールアップ等の ご検討も承りますので、ぜひお問い合わせフォームからお問い合せ下さい。◆◇ |
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