AMATがEUVマスク向けエッチング装置を開発、16nm以降に向けてパターン精度と欠陥性能を改善

　米Applied Materials, Inc.（AMAT）が、EUV（extreme ultraviolet）マスク向けの エッチング装置「Centura Tetra EUV」を発表した。既に大手マスク・メーカーに複数システムを設置しており、EUVリソグラフィの実用化に向けて大手マスク・メーカーと密接に取り組んでいると言う。