CVD装置の製品一覧

超高温MAX1800℃。　あらゆるプロセス環境に対応可能な基板加熱ヒーター

基板加熱ヒーター （窒化アルミプレート）Max 1800℃ 対応可能サイズ 1inch〜12inch用、及び最大φ800まで ヒーターエレメント：NiCr線（標準）、トッププレート材質：AlN…（つづきを見る）

• テルモセラ・ジャパン株式会社

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験が…（つづきを見る）

• 株式会社コスモ・サイエンス

ウエハーサイズ、用途、予算等によりカスタマイズし、製作いたします。

HF溶液中で電流または電位を制御することにより、多孔性シリコン（ポーラスシリコン：PSi）を形成します。詳しくはお問い合わせ下さい。

• 株式会社ダルトン

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用可能です。

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際に最適です。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で…（つづきを見る）

• 北野精機株式会社

耐プラズマ製ゴム材料

耐プラズマ製を改良したゴム材料各種ご用意しております

• コタニ株式会社

◉ 超高温（条件により最高2000℃まで昇温可能） 
◉ エレメント材質選択肢が豊富 
◉ ゾーン分割制御により優れた均熱性

半導体・液晶・薄膜太陽電池などの各種基板上の成膜実験、真空成膜装置用の超高温基板加熱ヒーターエレメント。 材質豊富に取り揃えておりますので、あらゆるプロセス雰囲気に対応可能。ご要望仕様に適したヒータ…（つづきを見る）

• テルモセラ・ジャパン株式会社

半導体・真空装置用基板加熱機構 最高1800℃ 基板昇降・回転機構、RFバイアス印可可能

半導体、電子基板成膜プロセス装置及び研究開発用【高温基板加熱機構】 対応基板サイズ：2〜12inch 真空・不活性ガス雰囲気・O2・各種プロセス反応ガス雰囲気等対応可能（詳細別途協議）

• テルモセラ・ジャパン株式会社

基板加熱ヒーター（BN） Max1100℃ 1inch〜4inch用

トッププレートにはBN（窒化ホウ素）セラミックプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置搭載・成膜実験用「ウエハー加熱ヒーター」です。

• テルモセラ・ジャパン株式会社

デュポン社で開発された耐薬品性・耐熱性に優れたシール材！

カルレッツの以外のエラストマーでは、ふっ素ゴム、シリコンゴム、他社製パーフロロエラストマーなどが、比較的耐熱温度が高く約200℃までの温度に用いられるが、200℃以上の温度に対してはカルレッツのみが使…（つづきを見る）

• コタニ株式会社

従来とは異なる画期的な設計と製造方法を採用した断熱材

幅広い分野で使用されているEガラス系断熱マットを基本に、半導体・樹脂成型・食品・医療関係で使用可能な、耐熱耐食にすぐれたPTFEを表面材質に選定し、縫製にて製作しております。

• 株式会社シンワバネス

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。

• サンドビック株式会社 ヒーティングテクノロジーカンパニー

微量金属、微量コロイド除去用、エレクトロニクス・ファインケミカル業界用フィルター

・エレクトロニクス業界で問題視されている微量金属（Na、Fe、Cr、Al等）、微量コロイドをろ過により除去が可能 ・ゼータ電位の吸着作用による高い粒子捕捉能力 ・低溶出性 ・クローズドラインでろ過が可…（つづきを見る）

• 住友スリーエム株式会社 工業用マーケット

独自の冷却技術を用いた 多段ルーツ式真空ポンプ

【特徴】 ○ルーツ式で大気圧から入口締切りまでの全域で 　運転を実現し、使い易さを追求 ○ステンレス(SCS13.14.16)製真空ポンプの製作が可能 　その他の特殊材質についても対応可能…（つづきを見る）

• 株式会社四葉機械製作所

様々なニーズに対応

パーカー熱処理工業社が取扱う、真空蒸着システムの総合カタログです

• パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所