エッチング装置の製品一覧
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最終更新日:2011/03/03
大学や研究機関に 多数の実績!バイオケミカルから半導体まで対応 低コストの小型低圧プラズマ装置!
大型の製造装置としてのプラズマ装置は保有していても、生産に使用するためプロセス開発に使用できない。厳密なパラメータより直ぐに使えることが大事。取扱の簡単な装置が欲しいが手間がかからない方が良い。設置場…(つづきを見る)
価格帯 その他 納期 その他
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最終更新日:2011/09/09
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最終更新日:2011/11/30
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最終更新日:2011/09/02
低エネルギーで均一なイオンビームを発生し、サンプルのクリーニングに使いやすい
試料のクリーニングとAUGERデプスプロファイル用エッチングに開発されたスパッタイオン銃です。静電レンズによってイオンビームのフォーカスと加速の効果を高めます。直径5-10mmの均一で高密度な不活性ガ…(つづきを見る)
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最終更新日:2012/02/06
高電流密度によって高速エッチングができる高精度イオンソースです。
エッチングイオンソースは、高電流密度にて高速エッチングができるイオン源です。AES/ESCA分析における試料クリーニング及びエッチング深さプロファイル分析用の製品です。動作距離25mm、ビーム径0.4…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/11/30
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最終更新日:2011/03/16
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