ウエハ加工/研磨装置の製品一覧ウエハ加工/研磨装置の製品一覧

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  • 最終更新日:2012/04/04

    ポリアセタール、エラストマーのモールドデポジットが良く落ちる!超音波洗浄機

    従来洗浄が難しいとされていた、ポリアセタール・エラストマー等の樹脂被膜が洗浄可能で、金型メンテナンスの時間が大幅に短縮可能。 金型以外の洗浄も対応が可能な高機能タイプ。 【特長】 ・汚れの再…(つづきを見る

    価格帯その他 納期その他
    用途/実績例
    各種金型などの洗浄に最適です。
    業種
    鉄/非鉄金属、産業用機械、機械要素・部品、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、光学機器、造船・重機、製造・加工受託、その他製造、鉱業、その他
  • 最終更新日:2011/09/02

    スパッタ-イオン源の製品画像です

    低エネルギーで均一なイオンビームを発生し、サンプルのクリーニングに使いやすい

    試料のクリーニングとAUGERデプスプロファイル用エッチングに開発されたスパッタイオン銃です。静電レンズによってイオンビームのフォーカスと加速の効果を高めます。直径5-10mmの均一で高密度な不活性ガ…(つづきを見る

  • 最終更新日:2012/05/08

    半導体 EFEMの製品画像です

    半導体 EFEM

    メイキコウのクリーンロボットの清浄度はクラス10(液晶パネル)&クラス1(ウェーハ)、究極のハンドリングを実現しています。 メカトロ技術に限りない清浄度を追求した半導体・液晶パネルの製造工程…(つづきを見る

  • 最終更新日:2011/08/19

    フォトリソグラフィ関連装置の製品画像です

    化合物半導体(LED、LD)、MEMS、SAWデバイス製造で使われるリフトオフ装置およびレジストコータ/デベロッパ

    化合物半導体に要求される省スペース化やハンドリングの安定性、マイクロマシンに要求されるような高粘度薬液への対応等、カスタマイズ要素が多い装置を提供しています。またお客様のニーズにあった装置も提供してい…(つづきを見る

  • 最終更新日:2010/10/01

    卓上型UV照射装置 MUVの製品画像です

    試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

    大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い  表面…(つづきを見る

  • 最終更新日:2010/11/29

    少量の洗浄液で効率よく洗浄が行えるエコノミーモデル

    「U300」の洗浄槽は小さい金型に適したサイズで、少量の洗浄液で効率よく洗浄が行えるコンパクトモデルです。洗浄に必要な液量は最大でわずか18リットル。低ランニングコスト化に貢献。

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