ウエハ加工/研磨装置の製品一覧ウエハ加工/研磨装置の製品一覧

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  • 最終更新日:2012/02/09

    世界が認めた高品質!半導体製造装置の製品集プレゼント!

    ズース・マイクロテックは、60年以上に及ぶ技術のノウハウを生かし、最新技術を取り入れた最先端の半導体製造装置の開発、製造を行っております。弊社の製品シリーズ集をご用意しましたので、お気軽にダウンロード…(つづきを見る

    価格帯その他 納期その他
    用途/実績例
    半導体製造など 【詳しくはカタログダウンロード、またはお気軽にお問い合わせください】
    業種
    機械要素・部品、産業用電気機器、電子部品・半導体、IT・情報通信、その他製造、その他
  • 最終更新日:2011/09/02

    スパッタ-イオン源の製品画像です

    低エネルギーで均一なイオンビームを発生し、サンプルのクリーニングに使いやすい

    試料のクリーニングとAUGERデプスプロファイル用エッチングに開発されたスパッタイオン銃です。静電レンズによってイオンビームのフォーカスと加速の効果を高めます。直径5-10mmの均一で高密度な不活性ガ…(つづきを見る

  • 最終更新日:2011/08/19

    フォトリソグラフィ関連装置の製品画像です

    化合物半導体(LED、LD)、MEMS、SAWデバイス製造で使われるリフトオフ装置およびレジストコータ/デベロッパ

    化合物半導体に要求される省スペース化やハンドリングの安定性、マイクロマシンに要求されるような高粘度薬液への対応等、カスタマイズ要素が多い装置を提供しています。またお客様のニーズにあった装置も提供してい…(つづきを見る

  • 最終更新日:2010/11/29

    少量の洗浄液で効率よく洗浄が行えるエコノミーモデル

    「U300」の洗浄槽は小さい金型に適したサイズで、少量の洗浄液で効率よく洗浄が行えるコンパクトモデルです。洗浄に必要な液量は最大でわずか18リットル。低ランニングコスト化に貢献。

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