ICPプラズマエッチング装置　SERIO

ICPプラズマエッチング装置　SERIOの製品画像です
独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の平滑性を実現！

神港精機株式会社

SERIOは高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。
電子分野からMEMS、ナノインプリント分野における高アスペクトエッチングに最適なシステム構成です。
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ICPプラズマエッチング装置　SERIO　基本情報

【特長】
１．独自プロセス採用により、エッチング側壁のスキャロップ現象を抑制
２．高い垂直性を実現（実力値90°±2°）
３．エッチングテーパー角度の制御が可能
４．開口率の高いパターンにも対応

【装置仕様】
処理ｃサイズ：φ4インチ、φ6インチ
真空性能：到達圧力　10×10−4Pa以下
プロセスガス：5系統
エッチング対象物：Si、石英、SiO2、SiN、SiC　他
排気系：ドライポンプ＋ターボ分子ポンプ
装置本体寸法：W660×D1600×H1550mm

価格	-
価格帯	その他
納期	お問い合わせください
発売日	取扱い中
型番・ブランド名	SERIO
用途／実績例	ナノインプリント分野（ナノモールド製造）記憶メディア（磁気記憶媒体・次世代光ディスク）半導体分野（電子＆光デバイス・導光板・光学レンズ）太陽電池関連
よく使用される業種	電子部品・半導体

ICPプラズマエッチング装置　SERIO　取扱い会社

神港精機株式会社東京支店詳細

真空ポンプ・薄膜形成装置・・投影機・プラズマ装置・精密電気炉の製造、販売を行っております。

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