浮遊帯域精製装置(FZ装置)
浮遊帯域精製装置(FZ装置) 1006002 製造・加工機械 > 半導体製造装置 実績のある装置です。
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浮遊帯域精製装置(FZ装置) 基本情報

シリコンロッドの浮遊帯域精製、単結晶化するための
装置です。

価格 4000万円〜5000万円
価格帯 1000万円以上 5000万円未満
納期
※-
発売日 取扱い中
型番・ブランド名 浮遊帯域精製装置
用途/実績例 シリコンロッドの浮遊帯域精製、単結晶化するための
装置です。
よく使用される業種 電子部品・半導体

浮遊帯域精製装置(FZ装置) 取扱い会社

アカイ電子工業株式会社詳細

低周波誘導加熱装置、高周波誘導加熱装置の設計・製造。

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