粉体表面への真空蒸着装置マイクロフェーズ

粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。

蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。

関連リンク - http://www.microphase.jp/

基本情報粉体表面への真空蒸着装置

【特徴】
○当社発案のバイブレーション試料台を搭載し、試料を振動・回転させながら蒸着が可能。
○粒子の回転により、粒子各面に均一な蒸着が可能で、蒸着斑が大幅に改善が可能。
○お客様の既存の真空蒸着装置に、当社バイブレーション試料台と逆さま蒸発坩堝を組み込んで搭載させることも可能。

●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。

価格情報	お気軽にお問い合わせください。
価格帯	500万円 ~ 1000万円
納期	お問い合わせください ※お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例	●詳しくは、お問い合わせください。

お問い合わせ

取扱企業粉体表面への真空蒸着装置

株式会社マイクロフェーズ

◆ナノ成膜装置＝　CNT合成装置、　グラフェン成膜装置、　回転CVD炉、　ロータリキルンCVD装置、　負極材表面へのカーボンコートCVD装置、　ナノ粒子成膜装置、　真空蒸着装置など ◆ナノ材料＝　垂直配向CNT、　CNT分散液、CNT樹脂複合材料、　伸び～るCNTゴムシート、　CNT黒体、　CNT熱伝導シート、　酸化チタン／炭化チタンナノチューブなど