- 書籍:フォトレジスト材料の評価
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- 最終更新日:2012/01/18
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- -ノボラックレジストから最新EUVレジストまで-
- サイエンス&テクノロジー株式会社
- 好評にお応えして改訂版発刊!フォトレジスト・原材料の研究開発、配合、使用、製造、品質管理にかかわるすべての方に!
書籍:フォトレジスト材料の評価 基本情報
著者:リソテックジャパン(株) 関口 淳
【目次】
第1章 リソグラフィーの概要
第2章 フォトレジストの塗布
第3章 露光技術
第4章 露光後ベーク(PEB)と現像
第5章 g線,i線レジスト(ノボラックレジスト)の評価技術
第6章 KrF・ArF用フォトレジストの評価技術
第7章 ArF液浸レジスト・ダブルパターニング(DP)プロセスの評価技術
第8章 EUVレジストの評価技術
第9章 ナノインプリント・プロセスの最適化とその評価
| 価格帯 | その他 |
|---|---|
| 納期 | |
| 発売日 | 取扱い中 |
| 用途/実績例 | 詳細はカタログをご覧ください。 |
| よく使用される業種 | 化学、石油・石炭製品、ゴム製品、セラミックス、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、機械要素・部品、電子部品・半導体、自動車・輸送機器、試験・分析・測定、環境、エネルギー、印刷業、製造・加工受託、教育・研究機関 |
書籍:フォトレジスト材料の評価 取扱い会社
1.技術図書・一般図書の出版 2.技術・研究者向け各種講習会の企画、開催 3.翻訳業務 ≪取扱いテーマ≫ ■新エネルギー、発電、省エネ ■電池・蓄電デバイス ■環境・資源 ■基盤技術・材料共通技術 ■樹脂・ゴム、高分子、複合材料 ■フィルム、プラ成形・加工 ■金属、ガラス、セラミックス、カーボン ■微粒子、ナノ材料 ■半導体、電気、電子、通信 ■光学、照明、表示デバイス ■表面・界面、接着、コーティング、表面加工 ■合成・プロセス化学 ■生産・製造施設、設備 ■分析、試験、測定、評価 ■特許・知的財産 ■法規制 ■新規事業 ■医薬品 臨床開発、開発薬事、製販後 ■医薬品 特許、知的財産、ライセンス ■医薬品 製品戦略、マーケティング ■医薬品 創薬、毒性、薬物動態、薬理 ■医薬品 品質、分析、CMC薬事、製剤 ■医薬品 製造、GMP ■医療機器 開発、薬事、製造 ■化粧品 開発、マーケティング、製造 ■バイオ
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