UHV環境下での極薄膜作製に最適。 英国オックスフォードアルライドリサーチ社製品
高度な制御が可能で多くの材料に対して0.1~50Å/minの範囲でコントロールが可能。
≪用途≫
数nmの薄膜作製、半導体ドーピング
≪特長≫
■冷却効率で今民ネーションフリーの設計
■材料はロッドまたはルツボ充鎮の選択
■標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロール可能
■1ポケットと4ポケットのタイプがあり、4ポケットは、それぞれ独立した制御が可能なタイプと最高4つの材料の同時蒸着が可能なタイプ
基本情報ミニeビームエバポレーター
1ポケットと4ポケットのタイプがあり、4ポケットは、それぞれ独立した制御が可能なタイプと最高4つの材料の同時蒸着が可能なタイプあります。
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