精密薄膜コーティングプロセス 「ナノプロセス(R)」
精密薄膜コーティングプロセス 「ナノプロセス(R)」 http://www.ipros.jp/public/product/image/309/2000109429/IPROS9116065930304061798.jpg 【特徴】 ○機能性材料を数μm以下のナノ薄膜を基材に形成させるコーティングプロセス ○基材表面に付与できる代表的な機能 →撥水撥油性付与・非粘着付与・親水化付与・高硬度化付与 →反射防止・指紋跡防止などのほか潤滑、絶縁などの用途にも適用可能 ○撥水撥油性および非粘着性付与 →低温(150℃以下)処理タイプと高温(約300℃)処理タイプの2種類あり ○親水化付与 →親水化手段は幾つかの方法がある →SiO2系とTiO2系が多く用いられている →SiO2系は高硬度と親水化 →TiO2系は防汚、抗菌、親水化、紫外線を照射すればより効果的 ○高硬度化付与 →めっきなどのウエットプロセスと真空めっきなどのドライプロセスあり ○反射防止・指紋跡防止 →低屈折率材料を表面に塗布する事により指紋跡防止、反射防止が行える ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 株式会社吉田SKT 本社 科学・理化学機器 > 表面処理装置 > 表面処理受託サービス
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基本情報精密薄膜コーティングプロセス 「ナノプロセス(R)」

【特徴】
○機能性材料を数μm以下のナノ薄膜を基材に形成させるコーティングプロセス
○基材表面に付与できる代表的な機能
→撥水撥油性付与・非粘着付与・親水化付与・高硬度化付与
→反射防止・指紋跡防止などのほか潤滑、絶縁などの用途にも適用可能
○撥水撥油性および非粘着性付与
→低温(150℃以下)処理タイプと高温(約300℃)処理タイプの2種類あり
○親水化付与
→親水化手段は幾つかの方法がある
→SiO2系とTiO2系が多く用いられている
→SiO2系は高硬度と親水化
→TiO2系は防汚、抗菌、親水化、紫外線を照射すればより効果的
○高硬度化付与
→めっきなどのウエットプロセスと真空めっきなどのドライプロセスあり
○反射防止・指紋跡防止
→低屈折率材料を表面に塗布する事により指紋跡防止、反射防止が行える

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カタログ精密薄膜コーティングプロセス 「ナノプロセス(R)」

取扱会社精密薄膜コーティングプロセス 「ナノプロセス(R)」

株式会社吉田SKT 本社

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