「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」は超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。
本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。
【特徴】
○Oリングを使用しない超高真空タイプ
○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、
ガス導入用のフランジは不要
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基本情報スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」
【仕様】
○取付フランジ ICF-152
○ターゲットサイズ 1.5inch（円形）
○ターゲット固定 リテイナー式
○マグネット材質 SmCo
○ベーキング温度 300℃
○RF電源（オプション）
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カタログスパッタソース 「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」
取扱企業スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」
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最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品（フランジ・継手類、他） 《ＰＶＤ／ＣＶＤ装置》 ◆有機ＥＬ材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機ＴＦＴ開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置（ＭＢＥ） （化合物半導体・窒化物・酸化物） ◆有機金属気相成長装置（ＣＶＤ） 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置（ＦＩＭ） ◆電子エネルギー分析システム（ＣＭＡ） ◆ＴＥＭホルダー（加熱／低温） ◆ＵＨＶレーザー顕微鏡装置 ◆３次元アトムプローブ装置（３ＤＡＰ）
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