多層膜、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜に
二酸化ケイ素 SiO2は、反射防止膜用、多層膜用、膜応力緩和用、自動連続給材用、
成形品、など様々な分野に応用可能です。
【特長】
■外観・形状:透明〜白色・顆粒状・タブレット状・リング状
■純度:99.9%以上
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基本情報低屈折率材料 二酸化ケイ素 SiO2
【仕様】
■分子式:SiO2
■屈折率(at 550nm):1.47
■透過波長(nm):200~10,000
■融点(℃):1710 (Softing)
■沸点(℃):2227
■密度(g/cm3):2.2
■蒸着ソース: EB,Ta
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価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。 |
カタログ低屈折率材料 二酸化ケイ素 SiO2
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