単結晶育成装置(イメージ炉)
単結晶育成装置(イメージ炉) 244537005 科学・理化学機器 > 加熱装置・炉 フローティング方式の赤外線加熱単結晶育成装置です。 磁性材料や誘電体および圧電体の単結晶はもちろん、 分解溶解形化合物、遷移元素化合物の単結晶、光学 結晶や宝石等も育成できます。 【特長】 ◆2000℃以上の高温が容易に得られます ◆赤外線のため、高周波誘導加熱で融解できない種々の酸化物結晶育成が可能です ◆るつぼ不要で不純物が混入しないため、高純度の単結晶が得られます ◆結晶育成に最適な雰囲気ガスを使用可能 ◆適正な軸方向の温度勾配 ◆安定したランプ出力 ◆結晶育成状況はパソコンモニターにて観察可能 ◆パソコンによる一元管理
  • 単結晶育成装置(イメージ炉)の製品画像です
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  • 単結晶育成装置(イメージ炉)
    キヤノンマシナリー株式会社
    フローティング方式の赤外線加熱単結晶育成装置です。

    磁性材料や誘電体および圧電体の単結晶はもちろん、
    分解溶解形化合物、遷移元素化合物の単結晶、光学
    結晶や宝石等も育成できます。

    【特長】
    ◆2000℃以上の高温が容易に得られます
    ◆赤外線のため、高周波誘導加熱で融解できない種々の酸化物結晶育成が可能です
    ◆るつぼ不要で不純物が混入しないため、高純度の単結晶が得られます
    ◆結晶育成に最適な雰囲気ガスを使用可能
    ◆適正な軸方向の温度勾配
    ◆安定したランプ出力
    ◆結晶育成状況はパソコンモニターにて観察可能
    ◆パソコンによる一元管理
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単結晶育成装置(イメージ炉) 基本情報

フローティング方式の赤外線加熱単結晶育成装置です。

磁性材料や誘電体および圧電体の単結晶はもちろん、
分解溶解形化合物、遷移元素化合物の単結晶、光学
結晶や宝石等も育成できます。

【特長】
◆2000℃以上の高温が容易に得られます
◆赤外線のため、高周波誘導加熱で融解できない種々の酸化物結晶育成が可能です
◆るつぼ不要で不純物が混入しないため、高純度の単結晶が得られます
◆結晶育成に最適な雰囲気ガスを使用可能
◆適正な軸方向の温度勾配
◆安定したランプ出力
◆結晶育成状況はパソコンモニターにて観察可能
◆パソコンによる一元管理

価格 -
価格帯 その他
納期
発売日 取扱い中
型番・ブランド名 IR IMAGE FURNACE
用途/実績例 工業用からグループ個人研究用まで多様な研究環境に対応します
よく使用される業種 化学、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、産業用機械、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、自動車・輸送機器、試験・分析・測定、IT・情報通信、ソフトウェア、医薬品・バイオ、建築・土木・エンジニアリング、製造・加工受託、医療・福祉、教育・研究機関、官公庁、その他

単結晶育成装置(イメージ炉)のカタログ

赤外線加熱単結晶育成装置

  • フローティング方式の赤外線加熱単結晶育成装置です。

    磁性材料や誘電体および圧電体の単結晶はもちろん、
    分解溶解形化合物、遷移元素化合物の単結晶、光学
    結晶や宝石等も育成できます。

    【特長】
    ◆2000℃以上の高温が容易に得られます
    ◆赤外線のため、高周波誘導加熱で融解できない種々の酸化物結晶育成が可能です
    ◆るつぼ不要で不純物が混入しないため、高純度の単結晶が得られます
    ◆結晶育成に最適な雰囲気ガスを使用可能
    ◆適正な軸方向の温度勾配
    ◆安定したランプ出力
    ◆結晶育成状況はパソコンモニターにて観察可能
    ◆パソコンによる一元管理
    [PDF:5MB]

単結晶育成装置(イメージ炉) 取扱い会社

キヤノンマシナリー株式会社詳細

半導体製造装置のうち後工程であるボンディング設備,その他半導体関連設備等を中心とした「セミコンシステム事業」、事務機器関連組立装置,小型二次電池製造装置,プリント基板関連装置,自動車電装関連装置等を中心とした「FAシステム事業」の開発・製造・販売を当社および国内外グループ企業の連携によって展開しております。

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