固体ソースECRプラズマ成膜装置　ATEX　EC-2300

固体ソースECRプラズマ成膜装置　ATEX　EC-2300　基本情報

薄膜研究にたずさわる方々からの要望におお応えするため、お求め安い価格のATEX-2300を開発いたしました。
低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した高性能機です。
酸化物、窒化物などの薄膜研究に最適な装置です。


◆成膜特徴◆

【高品質薄膜形成】
低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品位な薄膜が形成されます。
極限的な耐圧を示すSiO2膜の他、ダイヤモンド並みに硬く、水分の遮断性に優れたSi3N4、水素バリア性の高いAl2O3膜など得られます。

【低温、低損傷】
イオンアシスタント効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い結晶性薄膜を得ることも可能です。
また、イオンエネルギーが低いことから、基板に対して低損傷でソフトな清浄化効果を期待できます。

【広範囲な材料成膜】
各種の化合物薄膜を容易に形成できます。