MEMSデバイス製造用エッチング装置

MEMSデバイス製造用エッチング装置　基本情報

シリコンエッチングだけでなく、同装置内に窒化膜エッチング、
酸化膜エッチングユニットを内蔵した、MEMS製造に最適な装置

【特徴】
○シリコンエッチングにエッチング面内ばらつきを抑制する
　独自の回転処理機構を搭載
○窒化膜・酸化膜エッチングでは、エッチング処理〜リンス処理まで
　自動で行う独自のコンパクトな搬送機を搭載
○シリコンエッチングでは希望のTMAH濃度にて薬液を作成する
　自動秤量システム、処理中のTMAH濃度を一定に保ち安定した
　エッチング処理を行える濃度管理システムを搭載(濃度制御　±0.5wt％)
○窒化膜エッチングには熱リン酸の循環フィルタリング機構(温度制御±0.5℃)
　酸化膜エッチングではフッ酸濃度を希望の濃度にて
　薬液を作成する自動秤量システムを搭載
○装置外形寸法 : 3800mm(W)×1800mm(D)×2500mm(H)

●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。