フォトレジストの研究開発用露光ツール　リソテックジャパン

基本情報フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトレジストの研究開発用露光ツール！
フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

■□■ラインナップ■□■

■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置）
■UVES-2500
（g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置）
■ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置）
■VUVES-4500mini（248・193nm対応解析露光装置）
■IMESq-5500（193nm液浸露光対応QCM解析装置）
■EBES-6000（電子線対応解析露光装置）
■EUVES-7000（EUV光対応解析露光装置）

■□■特徴■□■

■ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて
オープン・フレーム露光が可能
■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて
現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速

■その他機能や詳細については、カタログダウンロード　
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型番・ブランド名	UVES-2000・UVES-2500・ArFES-3500LP・VUVES-4500mini・IMESq-5500　など
用途／実績例	リソテックジャパン社は、設立以来リソグラフィのスペシャリストとして、現像速度解析装置、リソグラフィ・シミュレータ、コーター、デベロッパ、さらに最先端プロセス評価用露光システムに至るまで、お客様のご要望に迅速に対応しています。詳細は、お問い合わせ下さい。