- 半導体・FPD製造装置用 真空熱盤ヒーター
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- 最終更新日：2010/10/01
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- 半導体・FPD製造装置用 真空熱盤ヒーター
- 株式会社岡崎製作所
- 最高使用温度はヒータ表面においてMAX900℃
均熱性は±1％以内を実現した、真空熱盤ヒータ
【特徴】
○サイズは円盤状で12インチサイズに対応
1mを越える角形のヒータも製造可能
○熱盤の材質は様々な種類に対応し、アルミニウムやステンレス鋼の他
腐食性ガスに対応可能な耐食性の高いインコネル系の合金等でも製作可能
○熱盤寸法：丸形、角形等各種形状製作可能
○常用温度：850℃（短時間使用温度：900℃Max.）
○温度分布：有効加熱範囲において±1％以内
○熱盤材料：ステンレス鋼、アルミニウム、インコネル合金
○取り合い：Oリングシールタイプ、ハーメチックシールタイプ等
●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 -
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半導体・FPD製造装置用 真空熱盤ヒーター 基本情報
最高使用温度はヒータ表面においてMAX900℃
均熱性は±1％以内を実現した、真空熱盤ヒータ
【特徴】
○サイズは円盤状で12インチサイズに対応
1mを越える角形のヒータも製造可能
○熱盤の材質は様々な種類に対応し、アルミニウムやステンレス鋼の他
腐食性ガスに対応可能な耐食性の高いインコネル系の合金等でも製作可能
○熱盤寸法：丸形、角形等各種形状製作可能
○常用温度：850℃（短時間使用温度：900℃Max.）
○温度分布：有効加熱範囲において±1％以内
○熱盤材料：ステンレス鋼、アルミニウム、インコネル合金
○取り合い：Oリングシールタイプ、ハーメチックシールタイプ等
●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
| 価格 |
- |
|---|---|
| 価格帯 | その他 |
| 納期 | |
| 発売日 | 取扱い中 |
| 型番・ブランド名 | 真空熱盤ヒーター |
| 用途／実績例 | 【用途】 ○半導体 ○FPD ○太陽電池パネル |
| よく使用される業種 | 産業用機械、電子部品・半導体、その他 |
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