テルモセラ・ジャパン株式会社【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

最終更新日：2023-10-15 20:38:59.0
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CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現性に優れた高真空超高温ウエハー加熱用ホットプレート

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。

【ラインナップ】
◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用

【特徴】
◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN）
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期（標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く）

基本情報【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

大学・官公庁研究機関で真空薄膜実験用に多数の採用実績がある信頼性高い超高温真空用ホットプレートです。独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。

◆ヒーター仕様◆
◎ 使用発熱体
・NiCr（SH-IN型）, W/BNコンポジット（SH-BN型）
◎ 最高使用温度
・850℃（SH-IN型）, 1100℃SH-BN型
◎ 対応基板サイズ
・1〜6inch（*1, 1.6inchはインコネルタイプのみ）
◎ 使用雰囲気
・SH-IN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他
・SH-BN：真空（1x10-7Torr）, 不活性ガス, H2, He, CH4, C（*O2不可）
◎ 基板固定用サンプルクリップ付属
◆オプション仕様◆
◎ 真空フランジ（JIS, ICF, ISO）
◎ 基板回転, 上下昇降機構
◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini

価格情報	-
納期	お問い合わせください ※仕様により納期が異なります、当社へお問い合わせ下さい。
型番・ブランド名	SH-IN series, SH-BN series
用途／実績例	半導体・電子部品基板基礎技術開発分野でのCVD, PVD（PLD, ALD, 蒸着, スパッタリング）などの薄膜実験、物性研究、材料分析などの研究開発用途に最適、又、生産用途装置での活用も可能です。

ラインナップ

型番	概要
SH-IN-1.0inch	加熱部Φ1.0inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-IN-1.6inch	加熱部Φ1.6inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-IN-2.2inch	加熱部Φ2.2inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-IN-3.1inch	加熱部Φ3.1inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-IN-4.1inch	加熱部Φ4.1inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-IN-6.1inch	加熱部Φ6.1inch Max 850℃ インコネルプレート使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He, O2
SH-BN-1.0inch	加熱部Φ1.0inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He
SH-BN-1.6inch	加熱部Φ1.6inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He
SH-BN-2.2inch	加熱部Φ2.2inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He
SH-BN-3.1inch	加熱部Φ3.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He
SH-BN-4.1inch	加熱部Φ4.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He
SH-BN-6.1inch	加熱部Φ6.1inch Max 850℃ BNプレート（Moカバー付き）使用雰囲気：真空（1x10-7Torr〜760Torr）, Ar, N2, H2, CH4, He

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お問い合わせ

詳細情報【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

: SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ
SH-IN-2.2inch-サンプル固定クリップ

: SH-IN-1.6inch custom heater
Inconel 1.6inch heater right angled
CF114 flange

: SH-BN-1.6inch heater with bracket
SH-BN-1.6inch heater with bracket

: SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例
SH-IN-2.2inch-裏面支柱x4設置例

: SH-IN-2.2inch customer heater
CF203 flange, Heater quarter faced

: SH-IN-1.6inch-600℃昇温中
SH-IN-1.6inch-600℃昇温中

: SH-IN-2.2inch-R【基板回転機構】
SH-IN-2.2inch-rotation stage
CF114 base flange

: 【ターゲット・カルーセル】基板ヒーターオプション
【PLD (Pulsed Laser Deposition) システム用自動ターゲット回転機構】
・ターゲットサイズ：1inch or 2inch
・ターゲット数：最大3個まで
・接続フランジ：8inch (ICF203)
・自公転：ターゲット選択（公転）、ターゲット回転（自転）
・19inchラックマウント式専用コントローラー