「フォトマスク」がつけられた製品一覧
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最終更新日:2012/03/20
◆◆◆ 少量多品種、R&D用途にも最適 ◆◆◆
<<<スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実行>>> テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや…(つづきを見る)
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最終更新日:2012/04/10
二酸化ケイ素(Si02)だけからなるガラス。
密度 2.20g・cm-3、軟化点 1650℃、比熱 0.841J・g-1、熱膨張率 5.5~5.8×10-7K-1、屈折率nd 1.4585。耐熱特性と耐衝撃に優れており紫外線透過にも優れております…(つづきを見る)
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最終更新日:2012/04/25
フォトマスク洗浄ならテクノビジョンの『TWC-300』
『露光工程(コンタクト・プロキシミティー)の経費を劇的に削減!』 マスク洗浄装置「TWC-300」は、マスクに付着した1ミクロン以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する洗浄装置。 …(つづきを見る)
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最終更新日:2012/03/21
10,000,000円* 前後のマスク代を毎月削減も可能
■レジスト除去: マスクに付着したレジストは、通常のプロセスで付着した軽度な汚染と、 テスト用途や長期間洗浄されないまま保管されていた使用履歴が分からないマスクなどに見られる頑固な汚染の2種類に分…(つづきを見る)
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最終更新日:2010/07/29
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最終更新日:2011/11/18
検査・観察の際の疲労や負担を軽減し生産性向上に貢献します。 金型の検査から宝石の加工まで、様々な分野に対応します。
<特徴> ・わずかな視点の移動だけで楽々3Dビューイングできます。 ・目に優しく、検査・観察の際の疲労や負担を大幅に軽減し生産性向上に貢献します。 ・両手が自由に使えるので、微小物の分解・組み立…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/10/07
先端半導体やイメージデバイスのフォトマスク製造に最適な高速レーザー描画装置
Sigma7700は、データ量に左右されずに高速で描画するレーザー描画装置です。Sigmaは生産現場で実証された信頼性と使いやすさで、90nm以下のノードを幅広くカバーします。 4パスモードでは最高…(つづきを見る)
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最終更新日:2010/10/01
レザー描画装置で高精度に描画します。
「ミクロの世界のエキスパート」をスローガンにフフオォトトフファブリ参一雪ヨンー筋に約40年,今新しいし一tj=直接描画装置の導入により,より高精度,より高品質なパターンをお届けします。 光崇医療機器…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/04/05
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最終更新日:2012/03/30
高品質なフォトマスクを短納期、低価格でご提供
高精度レーザー描画装置と高度に管理されたクリーン環境、長年に亘るノウハウを結集して構築したプロセスにより、高精度かつ高品質なフォトマスクをご提供します。 徹底的に合理化されたプロセスは製造コスト…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/09/05
次の世代を先取りし世界市場をリードするフォトマスクの技術
今日脚光を浴びている薄型テレビと呼ばれるプラズマや液晶ディスプレイ。次世代と言われるSED、EL、FED。そしてIT通信機器を支える各種電子部品、半導体を中心とする様々なマイクロデバイス等、私たちの身…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/04/05
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最終更新日:2011/04/05
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最終更新日:2011/07/05
デファクトスタンダードの第8世代対応先端ディスプレイ用フォトマスク製造装置
マイクロニック・マイデータのレーザー描画装置LRSシリーズは、世界中のすべてのディスプレイ業界で使用されており、その安定性と性能は生産現場で実証されています。LRS15000-TFT3は、グレートーン…(つづきを見る)
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最終更新日:2011/10/07
半導体用マスク量産の主役 130nmから250nmまでのフォトマスク描画において、低い所有コストで高い生産性をご提供します。
マイクロニック・マイデータの描画装置Omega6800-XTとOmega6080-XTは、ボリュームゾーン半導体用フォトマスクをコスト効率良く生産するために設計されました。世界の主要なマスクメーカーで…(つづきを見る)































