「プラズマCVD」がつけられた製品一覧

大気圧プラズマの生成制御と応用技術　改訂版

大好評につき改訂版を発刊！新たな執筆者を加え、最新の大気圧プラズマ技術を解説！ ※こちらの書籍は2006年発刊【大気圧プラズマの生成制御と応用技術　監修　小駒益弘】（ISBN4-903413-13-…（つづきを見る）

• サイエンス＆テクノロジー株式会社

基板加熱ヒーター（Inc）Max850℃ 1inch〜4inch用

トッププレートにインコネルプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置搭載・成膜実験用真空ホットプレートです。

• テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマCVD法により、複雑形状の製品や内径内面へ密着力の優れたDLCーSi被膜をコーティングできます。

「プラズマCVD　NEO-Cコーティング」は、真空中で得られる低柵プラズマを利用して種々の製品にトライボロジー特性に優れたＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜を高い密着力でコーティングします。 処…（つづきを見る）

• 日本電子工業株式会社 本社

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System for 300mm

300mmウェーハ対応の低ストレスシリコン窒化膜や、TSVライナー絶縁酸化膜の形成に最適なプラズマ成膜装置です。

• SPPテクノロジーズ株式会社　（住友精密工業 関連会社）

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です。

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可…（つづきを見る）

• 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

真空蒸着技術、イオンプレーティング技術、プラズマCVD、2元蒸着技術等を詳しく紹介。連続真空蒸着機についても紹介

【講　師】久留米工業高等専門学校・生物応用化学科。教授、工学博士　伊藤 義文 氏 【会　場】川崎市産業振興会館　第5会議室 　【神奈川・川崎駅】 【日　時】平成22年10月28日(木)　1…（つづきを見る）

• 株式会社&Tech（AndTech,アンドテック）

プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可！

低ストレスシリコン窒化膜や、厚膜シリコン酸化膜の形成用プラズマ成膜装置です。

• SPPテクノロジーズ株式会社　（住友精密工業 関連会社）