「マイクロマシン」がつけられた製品一覧

化合物半導体(LED、LD)、MEMS、SAWデバイス製造で使われるリフトオフ装置およびレジストコータ／デベロッパ

化合物半導体に要求される省スペース化やハンドリングの安定性、マイクロマシンに要求されるような高粘度薬液への対応等、カスタマイズ要素が多い装置を提供しています。またお客様のニーズにあった装置も提供してい…（つづきを見る）

• 三井物産エレクトロニクス株式会社

コンパクト設計で研究開発に最適 用途に応じたレーザーを搭載可能 オートフォーカス・同時観察光学系のオプション

英国Oxford Lasers社のIndustrial Divisionは、実用的なレーザーアプリケーション開発のためにオックスフォード大学の物理学者らによって1977年に設立され、当初はエキシマレー…（つづきを見る）

• 株式会社日本レーザー

東京応化工業社　Web展示会【ＴＳＶ／半導体パッケージ展】http://tok-pr.com/

ＴＳＶ／半導体パッケージ展サイトでは電子機器の小型化・多様化に伴う 高密度実装の要求に対応する、 MEMS・半導体パッケージ／TSV／ WHS製造プロセスに最適な電子材料及び製造装置を発表いたしま…（つづきを見る）

• 東京応化工業株式会社

容易な調整 最適なレンズ選定サポート 幅広い種類のレーザーに対応 パルスレーザーも測定可能

レーザーの集光スポットをプロファイル観察する場合、スリット型のプロファイル測定装置が主力です。 しかしながら、このスリット型では測定に時間がかかり、パルスレーザーを測定できない、といったような問題が…（つづきを見る）

• 株式会社日本レーザー

高繰返しで355nmを最大平均出力5Wで発振 繰返し発振をプログラマブル制御可能 M２<1.3の優れたビーム

シングルショットから300kHzのプログラマブル繰返しが可能で、166マイクロジュールまでのパルス強度とM2<1.3という高品位ビームモードは、精密な理科学実験から工業用途の連続運転まで、幅広い…（つづきを見る）

• 株式会社日本レーザー

最小描画サイズ 0.6μm 高精度でフレキシブル R&Dから生産用途まで対応するシリーズ

DWL(Direct Write Lithography)シリーズは、R&D用途に対応したDWL66fsから、生産用途に対応したDWL2000、DWL4000をラインナップ。 最小描画サ…（つづきを見る）

• 株式会社日本レーザー

半導体やセンサー、MEMS、マイクロマシンのめっきに最適

株式会社　山本鍍金試験器より、「精密めっき用電源」のご案内です。

• 株式会社山本鍍金試験器

チップトレーやICトレーの代替えに最適！

マイクロマシン/MEMSやICチップ、レンズや電子部品など多彩な精密部品にご使用頂けます。 その他、精密な治具/工具、医療部品、楽器部品などにもご使用頂けます。

• サカセ化学工業株式会社