各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【セミナー8/3】残留応力発生メカニズムと測定、 アニール処理技

様々なケースの “発生事例”　“要因特定” から “緩和手法” まで一…

■　講師 １． 本間技術士事務所　所長　本間 精一 氏 ２． ポリプラスチックス株式会社 研究開発本部 テクニカルソリューションセンター　濱野 裕輔 氏 ■　開催要領 日　時 ： ２０２３年８月３日(木)　１０：３０～１６：００ 会　場 ： Zoomを利用したLive配信　※会場での講義は行いません Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

技術情報誌 202001-01 in-situ STEM

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

MTJ（magnetic tunnel junction）構造が広く用いられている。このMTJ構造は数nm程度の薄い積層膜から成り、原子レベルでの膜厚やラフネスおよび結晶性が特性を左右する。また、アニール温度によって磁気特性が変化することから、本稿ではin-situ TEMを用いて、加熱に伴う結晶性や元素分布の変化過程をnmレベルで分析した事例を紹介する。 【目次】 １．はじめに ２．試料と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

技術情報誌 202001-02 酸化ガリウムの結晶構造解析

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

【図表】 図１～図13　 断面像、界面層の高分解能TEM像、電子回折パターン、原子分解能平面HAADF-STEM像・STEM像、結晶欠陥の原子分解能平面HAADF-STEM像 イオン注入後、アニール処理後分析結果、注入量、アニール処理温度の異なる試料のCL強度比較、キャリア濃度とdC/dV信号強度の関係...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

XAFS評価 ５．おわりに 【図表】 図１　As K端XANESスペクトル 図２　As K端FT-EXAFSスペクトル 表１　As K端FT-EXAFSカーブフィッティング結果 図３　アニールありおよびアニールなしにおけるヒ素の状態および周囲構造のイメージ 図４　P K端XANESスペクト...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

技術資料ULVAC TECHNICAL JOURNAL No78

無料プレゼント中！真空に関する最新技術資料 No.78です。【アルバッ…

スの開発 　・成膜プロセス，及び実際のデバイス評価結果について ■アルバックにおけるSiC パワーデバイスの量産技術開発進捗 　・SiC プロセスのキーテクノロジー、カーボンキャップと活性化アニール ■プラズマ実験装置用クライオポンプ「CRYO-U48NF」の開発 　・構造、特長 ■4K-GM 冷凍機「UR4K シリーズ」の新機種開発 　・新設計要素と開発結果について　　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.