• 各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』 製品画像

    各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

    PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…

    『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 真空・プロセスガス高速アニール装置『RTP/VPOシリーズ』 製品画像

    真空・プロセスガス高速アニール装置『RTP/VPOシリーズ』

    最大到達温度1,000℃!試作開発用途のほか、インラインシステムにも組…

    『RTP/VPOシリーズ』は、卓上型タイプの 真空・プロセスガス高速アニール装置です。 SiCの熱酸化プロセス及びGaNの結晶成長など高い純度や安定性を 要求される研究開発に適している「RTP-150」をはじめ「RTP-100」や 「VPO-1000-300」を...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • ウエハーマウンター 製品画像

    ウエハーマウンター

    独自の真空貼付方式!塗布技術のノウハウにより凹凸の大きなパターンにも対…

    マウンター』は、ウエハー薄板化および薄基板工程流動を サポートする製品です。 LD、LED、MMICなどの薄板化工程に使用されるウエハーを支持基板に 貼り合わせ、カセットに収納。 アニール後の薄板ウエハーの支持基板によるサポートにも対応します。 また、WAXメーカーとのアライアンスによるプロセス提案が可能です。 【特長】 ■薄板化工程に使用されるウエハーを支持基板に貼り合...

    メーカー・取り扱い企業: ダイトロン株式会社

  • セントロサーム 真空はんだリフロー炉 製品画像

    セントロサーム 真空はんだリフロー炉

    ボイドレス、フラックスレスリフローに対応したバッチ式の真空リフロー炉で…

    セントロサーム(正式名centrotherm international AG)は、1958年に設立された熱処理炉専門の世界的メーカーです。真空リフロー炉はじめ、拡散炉・LPCVD・高速ランプアニール炉など豊富なラインナップを取り揃えており、太陽電池や半導体分野の熱処理工程に貢献しています。 日本国内では、2006年から伯東株式会社が総代理店として同社製品の販売と保守サービスを担ってきました...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 真空熱処理装置(ホットプレートタイプ) 製品画像

    真空熱処理装置(ホットプレートタイプ)

    急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

    な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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