- 製品・サービス
40件 - メーカー・取り扱い企業
企業
18件 - カタログ
86件
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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残留応力を取り除くため、一定時間一定温度で加熱した後、徐々に温度を常温…
一般的にプラスチックのアニール処理は主に歪み取りが目的になります。 多くのプラスチックは高い圧力で金型に押し込められた状態で冷却されるため 歪みが発生する場合があり、これを残留応力とも言います。 寸法を重視する精...
メーカー・取り扱い企業： 多田プラスチック工業株式会社
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小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…
ギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロスコンタミネ...
メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮
遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮します。 樹脂成形品のアニール処理を画期的に変えるシステムです。 ●処理時間の大幅短縮 遠赤外線の放射加熱及び熱風拡散を併用する事により処理時間を大幅に短縮できます。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所
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ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置
大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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熱源はSiCヒーターを採用！高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉
『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に...
メーカー・取り扱い企業： アドバンエンジ株式会社
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R&D～量産まで使用可能！3～6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉
『VF-3000H』は、超高温処理が可能で、パワーデバイス製造に適した 活性化アニール炉です。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ～6インチまで幅広い ウェーハサイズに対応します。 ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで お...
メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準） ・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉
当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 （特長） ●早い加熱処理 例その１：自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 ６０分⇒５分 例その２：ＩＣトレー ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所
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生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。
高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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高温アニール炉の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別、…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の高温アニール炉の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における高温アニール炉の販売量と販売収益を調査しています。同時に、高温アニール炉の世界主要...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉
携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 （特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±３℃ ●省スペース化が可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所
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バッチ式アニール焼成炉
［仕 様］ ◆使用温度‥‥‥‥600℃ ◆炉内均一性‥‥‥600℃±3℃ ◆ＰIDプログラム温調 ◆炉内寸法‥‥‥‥ご希望の寸法に対応 ◆外形寸法‥‥‥‥幅900mm×高1650mm×奥行1500mm ◆使用電源‥‥‥‥3相 200V 20KVA ...●アルミナボード材にヒーターを組込築炉、SUSマッフル炉にすることで炉内の均熱性を高めています。 ●内...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒートテック
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真空アニール装置
液晶ディスプレイの注入後の気泡や色ムラ等の不良を解消するための装置です。 注入前に加熱して真空引きすることにより、セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現しました。 当社独自の技術により、真空加熱中の温度分布がよく、プロセス時間も短縮されます。...液晶ディスプレイの注入後の気泡や色ムラ等...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社
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高圧アニール装置
LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気で加圧加熱することにより600℃以下の低温で同じ効果を得ることができます。...LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社
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ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応 クリーンベーク装置）
３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…
真空置換後の低酸素雰囲気（N2）中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。３００ｍｍウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…
空ガスフロー処理、複数の処理モードを１台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品 高速加熱アニール 実績豊富な標準タイプから各種カスタマイズで個別対応 目的に合わせて小型からラインナップ。...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機！！ ヘビー…
（ワイヤーが溶け込む量）・バネの押圧力・ジョー間距離の溶接条件を個別に設定可能 ◇突合せ溶接を高めるデュアルフォース溶接（DD)をオプションあり ◇ミドルカーボン/ハイカーボン線の溶接に必要なアニール装置を 用途に応じて選択可能。 ・EGV：ボリュームスイッチにてアニール電流を無段階に調整する事ができ、自動オフするタイマー付き ・GSR：サイリスタ自動焼鈍+サイリスタ温度計付で、温度1...
メーカー・取り扱い企業： 東邦インターナショナル株式会社 本社
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カットサンプル提供中！工業炉の省エネ・熱対策ならお任せください
放熱がひどく環境が悪化していたアニール炉に「えこきーぱー」を施工した事…
自動車部品工場の省エネ対策・環境対策を行った事例をご紹介いたします。 以前より採用していただいている自動車部品メーカー様。別のアニール炉で 施工している「えこきーぱー」の省エネ効果が出ているため、保温等は 一切せず放熱がひどく環境が悪化していた工場内のアニール炉の環境対策での 施工をご依頼いただきました。 関連リンク...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社アール・シーウメハラ 本社
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フリーとしながらも優れた磁気特性を実現する異方性希土類鉄系焼結磁石など…
・量産ノウハウも提供しております。 【開発製品】 ■鉄基厚板アモルファス合金 ■等方性希土類鉄系ボンド磁石用磁粉 ■異方性希土類鉄系焼結磁石 ■機能性金属材料向け設備 ■フラッシュアニール炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： BIZYME有限会社
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ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…
『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応して...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…
空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…
『プラズマアニーラー』は、PlasmaIt社製の鉄・非鉄金属製のワイヤ・ チューブ・ストリップ等の長尺物を連続でアニール処理を行う装置です。 高出力アニーリングが可能で、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません。 小規模設備、低電力で、イニシャルコスト・ランニングコストが リーズナブルです...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…
『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュア...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…
フラッシュランプアニーリング装置 FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…
薄膜実験装置 - nanoPVD-S10Aマグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEALウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置 - MiniLab-GBグローブボックス式薄膜実験装置 - 他、コンポーネント類 ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…
な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール
従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準） ・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
ストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
ストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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