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365件 - メーカー・取り扱い企業
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18件 - カタログ
86件
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アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…
【ランプアニール装置】 最適温度でのアニール処理によるタクトタイムの向上のため、ステージの冷却が必要です。 ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1....
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピステ
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...
メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール処理・アニーリングで残留応力を除去！ 高品質なフッ素樹脂｜PT…
明興工業のフッ素樹脂｜PTFE素材成形技術 ホットコイニング、アニール処理・アニーリングについてご紹介します。 ★ホットコイニング 薄肉で複雑な形状のものを成形するときに用いられる技術です。 素材を焼成後、別の金型に入れて圧力をかけながら冷却します。 ★アニ...
メーカー・取り扱い企業： 明興工業株式会社
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真空・プロセスガス高速アニール装置『RTP/VPOシリーズ』
最大到達温度1,000℃！試作開発用途のほか、インラインシステムにも組…
『RTP/VPOシリーズ』は、卓上型タイプの 真空・プロセスガス高速アニール装置です。 SiCの熱酸化プロセス及びGaNの結晶成長など高い純度や安定性を 要求される研究開発に適している「RTP-150」をはじめ「RTP-100」や 「VPO-1000-300」を...
メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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残留応力を取り除くため、一定時間一定温度で加熱した後、徐々に温度を常温…
一般的にプラスチックのアニール処理は主に歪み取りが目的になります。 多くのプラスチックは高い圧力で金型に押し込められた状態で冷却されるため 歪みが発生する場合があり、これを残留応力とも言います。 寸法を重視する精...
メーカー・取り扱い企業： 多田プラスチック工業株式会社
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小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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高温でもフィルム縮みを防ぐ新技術！タッチパネルや電子部品フィルムなどに…
ＰＥＴフィルムは、収縮するものと、材料選定を諦めてはいませんか？『スーパーアニールフィルム』は、「超低収縮化＆熱シワ抑制技術」で実現した、超低収縮ＰＥＴフィルムです。タッチパネルや電子部品の精密機器等に最適のＰＥＴフィルム。 ＰＥＴフィルムごとの寸法のバラつきを抑え、寸法精度の...
メーカー・取り扱い企業： アイム株式会社
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超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…
ギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロスコンタミネ...
メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社
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コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』
GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装…
『RLA-3100-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。 耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、 N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。 また、自動ウェーハ載せ替え機構を装...
メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処…
当社では、真空・酸素雰囲気(常圧)・還元雰囲気(常圧)の雰囲気での 処理が選択できる急昇降温型の「横型アニール装置」を取り扱っています。 6インチまでの各種基板(ウェハ、セラミック、ガラス、実装基板)の処理に 対応しており、薄膜やウェハのアニール、ナノ金属ペーストの焼成、 有機材のキュアなど多く...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装…
『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可...
メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社
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アニール処理にお悩みの方必見！コンパクトな遠赤外線アニール炉
応答性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱するこ…
『遠赤外線アニール炉』は、樹脂成形品のアニール処理を画期的に変える システムです。 遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮。 処理時間が短くなる事により、コンパクトな連続炉とな...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エコム 本社 「ヒートスクエア」
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