リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用！ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5％RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア（マグネットパッキン式）で、中央支柱がないので、 横長のもの...

メーカー・取り扱い企業： トーリ・ハン株式会社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 【特徴】 （１）難エッチング材料を微細加工可能 （２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能 （３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能 （４...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

当社のイオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』を ご紹介いたします。 大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 高いスループットを実現。 特にMarathon(...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 　金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置な...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

【デモ実施中！】小型実験用イオンビームエッチング装置

【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

小型イオンビームエッチング装置

イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング（IBE）装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

カフマン　グリッドタイプ イオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…

『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)の イオンビームミリング装置です。 プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、 反応性イオンビームエッチング(RIBE)、ケミカルアシストイオンビーム エッチング(CAIBE...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームトリミング装置『scia Trim 200』

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマイズされた各種ＤＬＣ膜の除去に実績。 当然ＤＬＣ除膜だけで...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

回路形成材料　アデカベアックシステム

自動管理装置「アデカベアック装置」を用いて、エッチング液を常時分析

回路形成材料「アデカベアックシステム」は、自動管理装置「アデカベアック装置」を用い、エッチング液を常時分析し、ＯＲＰ（酸化還元電位）、イオン指数（遊離塩酸濃度）、比重の状態により、各種取り揃えた特殊エッチング液と再生剤及び水を必要量自動補給します。微細パターンの安定製造、不良率の大幅低減、生産性の飛躍的向上など、数々の効果を生み出しま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

● ワンタッチ操作のみで特別な操作が不要です。 ● 設置スペースが小さく場所を選びません。 ● 試料はφ4インチまで対応可能。 ● 専用機であるため低価格。 ...FA-1は、ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行うドライエッチング装置です。操作方法は簡単で、試料をセット...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

アールエムテック　サービス案内

マザーテクノロジーで未来を拓く　アールムテック　サービスご紹介

模原サービスセンターにて全数出荷前検査を行い日本、台湾、中国、東南アジアに出荷しています。 フロン排出規制に対応した冷凍機のため、既存設備からの載替を行っています。 ●GCIB（ガスクラスターイオンビーム） 数十〜数万個の気体原子よりなるクラスターをイオン化し、適度なエネルギーに加速して照射する技術です。低エネルギーイオンエッチング、高品位成膜・表面平滑化が実証されています。 ●Mult...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

ラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の 　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

半導体産業工程用フィルタ　有機溶剤用金属不純物除去フィルタ

一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属…

Iongard SL purifier 　イオン交換型有機溶剤向け金属除去 Nylonpolar Purifier 　Cobetterオリジナルの金属除去膜。表面修飾型ナイロン基膜を使用。酸を発生させないため、Lithography用材料に...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

仕様(一部)】 ■PECVD装置 ・SiN3膜形成 ・SiO2膜形成 ・サンプルサイズ最大240mm ■スパッタ装置 ・金属膜 ・有機膜 ・サンプルサイズ最大150mm ■反応性イオンエッチング装置 ・表面処理 ・故障解析 ・サンプルサイズ最大200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

Ion Beam Delayering装置/半導体物理解析

半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…

半導体故障解析における材料層の層剥離や除去に対して、迅速な結果を提供する費用対効果の高いソリューションです。広い面積にわたって、優れた均一性と最小限のダメージを実現します。複数のイオンビームエッチング技術を使用することにより、単一層の異なる材料のエッチングレートを一致させることができ、化学組成に関係なく層全体を均一に除去することが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

グを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でりコンパクトな設置寸...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

銅表面処理剤　アデカテックCA-1、テックCL-8

銅の表面処理を施し、様々な機能を付与することで各種レジスト材料との密着…

【特徴】 ・過酸化水素系の銅箔化研処理剤 ・水道水の使用が可能 （塩素イオン濃度30ppm 以下） ・硫酸との混合比により削り量と粗さを調節可能(CL-8は水との混合比により調節) ・処理後の銅表面が錆びにくい ＜FPC用途での特徴＞ ・圧延銅箔(HA箔)に対して...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

イオンアシスト蒸着法によるY5O4 F7膜は、Y2O3とYF3を2元同時蒸着で成膜速度を独立に制御して成膜されています。したがって、組成を自由に制御できますので結晶構造も選択が可能です。フッ素量を変化させ、最適なY5O4 F7膜を形成させています。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に…

【その他の特長】 ■イオンエネルギーを高密度に制御するため2MHzを下部電極に印加（オプション） ■エッチング処理毎のクリーニング処理（O2）により、電極やチャンバー壁についた 　フロン系膜を除去 ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。 プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオンエッチング(RIE)と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■300×300mm、450×450mm、750×750mm基板対応 ■基板バイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

る前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのスピードおよびガスの使用量の制御が容易。 ●プラズマを使用しないため、電界による素子へのダメージ（電子またはイオン衝撃）がない。 ●研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設計。 ●専用機であるため低価格。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置 RIE-10NR（平行平板型RIE装置）

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装置は、価格が低廉でありながら搭載されたPLCにより各種エッチング条件の管理を行うことができるコストパフォーマンスに優れた装置です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により 　MB...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

カフマン　グリッドレス(エンドホール型)　イオンソース

カフマングリッドレスイオンソース一式

The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arriv...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社