• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • マイクロ粒子のシート化技術 製品画像

    マイクロ粒子のシート化技術

    PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中!】 導電性フィルムや、全固体…

    当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

    • マイクロ粒子のシート化技術_2.png
    • マイクロ粒子のシート化技術_3.png
    • マイクロ粒子のシート化技術_4.png
    • マイクロ粒子のシート化技術_5.png

    メーカー・取り扱い企業: 日榮新化株式会社

  • 三菱マテリアルの静電気対策製品 製品画像

    三菱マテリアルの静電気対策製品

    電子機器を静電気破壊から守るサージアブソーバ!密度及び伝導性が高い材料…

    イプのDSPシリーズ。 1pF以下の静電容量なので、高周波の信号ラインでも信号波形に影響を与えません。 マイクロギャップ方式により、高応答性でサージの侵入に対して、素早く応答します。 ■イオン液体 ・不揮発性で難燃性:蒸気圧をほとんど持たず、燃えにくい性質。 ・高イオン伝導性 :イオン密度が高く、高いイオン伝導性。 ・低粘性 :フッ素系アニオンを有するため低い粘性。 ・広...

    メーカー・取り扱い企業: 三菱マテリアル株式会社 高機能製品カンパニー 電子材料事業部 営業部

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR