インチサイズ | イプロスものづくり

PR「液晶」「LCDコントローラIC」でお困りのお客様、お気軽にご相談下さ…

◆必見◆ ・LCDコントローラICの入手でお困りのメーカー様・他社製LCDコントローラICの生産中止等でお困りのメーカー様・液晶の生産中止や仕様変更などでお悩みのメーカー様〇小ロット、長期生産のお客様向けの製品です。〇液晶の生産中止、LCDコントローラICのデバイスの生産中止に対して強力な解決案となっています。〇弊社製品は基本的に1pcsからご購入可能です。【S...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ケニックシステム東京オフィス

小型スピンコーター　ACT-220A2

本装置は、研究開発用途の小型スピンコーターです。

低価格ながら、高性能、高生産性を備えております。サイズはコンパクトで、重量もわずか18Kgなので、持ち運びも楽です。マイコン制御により、安定した動作とシンプルなプログラミングが可能です。 ...ワークサイズ：φ10～φ100mm（max. φ4インチ、□70mm）基板対応カップサイズ：φ220mm（インナーカップφ217mm）常用回転数　：0～7000rpm±1rpm以下(負荷時...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イーエッチシー

電子線照射システム『EBラボ200』

電子線による実験・品質管理試験に活躍。最大加速電圧200keV、最大照…

『EBラボ200』は、真空密閉型の電子線照射ランプを搭載し、加速電圧80～200keV、最大照射線量950kGyの電子線照射を行える装置です。窒素ガスによる不活性化で50ppmまで酸素濃度を低減でき、酸素に敏感な物質も扱うことができます。放射線を完全に遮蔽しており、個人線量計が不要です。警報ランプや非常停止ボタンなども搭載しています。【特長】 ■操作しやすい1...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南貿易

強制駆動ユニット

安定したラッピング加工の補助に

強制駆動ユニットは、セラミックリング及び加工物を強制的に自転させるために使用します。標準サイズは、15インチ用・18インチ用がございます。 *他のサイズも製作いたします。...★詳しくは、資料・カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業：日本エンギス株式会社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロッ...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

実験用小型真空蒸着装置

MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料…

容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヤシマ

フラットパネル露光装置＜超大型縦型露光＞

大型パネルのマスクの撓みを大幅に削減！！

<特徴> 大型パネルのマスクの撓みを最小限に抑えたマスク縦型の露光装置です。多面取、大型パネルをXステップで露光。高い継ぎ精度で露光します。マスクとパネルの精密温度制御を行い、トータルピッチを抑えた装置になっています。 ...<仕様> 適用サイズ：150インチ対応Xステップ露光：50インチ12面Xステップ：42インチ8面1括方式：マスク縦型 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社清和光学製作所

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5mmx5mm～8インチ＊モデルにより...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

小型薄板用エッチング装置　ＦＢＥ４０

【工程】投入→エアーナイフ→エッチング→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50ｍｍ　厚み0.03〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230ｍｍ・材料開発やテストに最適・研究から少量生産に対応・PCB・LCDのエッチングが可能...◆独自の搬送方式により０．０３ｔのＦＰＣが治具無しで枚葉搬送...

メーカー・取り扱い企業：株式会社二宮システム

卓上型サーマル式 / プラズマ支援原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド最...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

R＆D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル

100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能で…

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。【特徴】スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。...型式 ASM86 Excimer 発光波長 172nm 処理対象物 W86mm×D120mm以下、厚...

メーカー・取り扱い企業：株式会社あすみ技研

燃料電池機能膜コーティング装置『SIFC型シリーズ』

サブストレート（ウエーブ）形状に対応した薄膜から厚膜のコーティングをご…

『SIFC型シリーズ』は、燃料電池用専用として開発設計された小型スプレー式コーティング装置です。特殊アトマイジング方式により、適した微小粒子を積層コーティング。また、貴重サンプル液が数ccでもコーティング可能です。【特長】 ■0.01μm～100μm（程度）の膜厚形成可能（フォトレジスト・FC触媒膜） ■特殊間欠塗布で安定塗布可能（テフロン分散液・FC触媒液・撥水膜他）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ミックラボ本社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ：最大4インチプレカーサー材料：５系統方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

小型薄板用現像装置　ＦＢＤ４０

【工程】投入→エアーナイフ→現像→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50ｍｍ　厚み0.03〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230ｍｍ・省スペース研究用・材料開発やテストに最適・PCB・LCDの現像が可能 ...◆独自の搬送方式により0.03tのFPCが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆極薄基...

メーカー・取り扱い企業：株式会社二宮システム

小型薄板用剥離装置　ＦＢＳ４０

０．０３ｔのＦＰＣが治具なしで枚葉搬送可能！小型薄板用剥離装置

【工程】投入→エアーナイフ→剥離→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50ｍｍ　厚み0.03〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】なし【装置サイズ】W1445×L2010×H1230ｍｍ...◆独自の搬送方式により０．０３ｔのＦＰＣが治具なしで枚葉搬送が可能 ◆薄板基板でも搬送ローラーによるダメージがない ◆薄板用液切り方式によりワークの折れ、シワがない ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社二宮システム