リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

タニムラ　クリーンルーム用導電性ウエス・ワイパー MS-CNW

クリーンルーム用導電性ウエス・マイクロワイパーは、Class100対応…

超極細マイクロ繊維で織ったハイレベル・クリーンルーム用導電性ワイパー クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般ウエスではなく必ずクリーンルーム専用品を使用します。 特に電子部品や機器類を扱う作業では、ESD静電気対策も必要です。 その中で、強力な吸水性や拭き取り性能が必要な場合、クリーン導電性マイクロウエス...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社

タニムラ　クリーンルーム用導電性ウエス・ワイパー MS-CNW

クリーンルーム用導電性ウエス・マイクロワイパーは、Class100対応…

超極細マイクロ繊維で織ったハイレベル・クリーンルーム用導電性ワイパー クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般ウエスではなく必ずクリーンルーム専用品を使用します。 特に電子部品や機器類を扱う作業では、ESD静電気対策も必要です。 その中で、強力な吸水性や拭き取り性能が必要な場合、クリーン導電性マイクロウエス...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社

タニムラ　クラス100クリーンルーム用厚手ウエス MK-MIW

クリーンルーム用ハイレベルワイパー/超純水洗浄＆クリーンパック品（クラ…

超極細マイクロ繊維で織った厚手ハイレベル・クリーンルーム用ワイパー[MK-CMW] クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般ウエスではなく必ずクリーンルーム専用品を使用します。 特に強力な吸水性や拭き取り性能が必要な現場では、このクリーンマイクロウエスを使用します。 本製品には、非常に優れた吸水性・拭取り性能がある「マイ...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社

タニムラ　クリーンルーム用帯電防止ウエス・ワイパー HD-ACW

繰り返し洗浄が可能/静電気対策が施されたクリーンルーム用ウエス・ワイパ…

縫い込んだクリーンルーム用ワイパー クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般製品ではなく必ずクリーンルーム専用品を使用します。 更に静電気の帯電防止が必要な現場ではこのクリーン帯電防止ウエス・ワイパーを使用します。 本製品には 優れた導電性能がある「導電糸」が17mm間隔で全面に張り巡らされています。 この「導電性ストライプ柄」により 製品が導電性材料である証明になる上、一般品と...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社

タニムラ　クリーンルーム用タオルHD-TWL

クリーンルーム用タオル・雑巾・ダスター厚手の吸水ウエス・汗拭き・クリー…

クリーンルームで使用できるタオル[HD-TWL] クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般のタオルではなく必ず専用品を使用します。 特に強力な吸水性や保水力が必要な現場では、このクリーンタオルが役に立ちます。 本製品は、３枚の綿生地をポリエステル生地で挟んだ 合計５層構造の縫製品です。 すなわちクリーンルーム内で発塵せず、綿特有の吸水力・保水力を発揮することができます。 また純水...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社

タニムラ　クラス100クリーンルーム用スーパーウエスMK-CSW

クリーンルーム用ハイレベル薄手ワイパー/超純水洗浄＆クリーンパック品（…

超純水洗浄済みのハイレベル・クリーンルーム用ワイパー[MK-CSW] クリーンルーム内では、ホコリや粉塵を発生する一般ウエスではなく必ずクリーン専用品を使用します。 特にハイレベルな管理が必要な現場では、このクリーンマイクロワイパーを使用します。 本製品は 超純水で生地内部の洗浄を行った後、クリーンルーム内で密封包...

メーカー・取り扱い企業： タニムラ株式会社