リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【地震対策】水や油のある環境編【アンカーレス】

【工場・製造ライン】常に水や油のかかる環境でもご提案が可能です【安震ア…

[脱脂の際に準備するもの] ・パーツクリーナー/IPA ・アセトン等の溶剤 ・ウエス ※手順などはページ下部にある 資料ダウンロードより資料をご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社安震