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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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クロムめっきの品質向上に!簡易濾過機『マイフィルター』動画公開中
クロムめっきの不良にお困りの方必見!簡単かつ効率よくクロムめっき液の品…
併用すると効果を更に向上させるマグネバー 【特長】 ■超強力な磁力により浮遊する微細な鉄粉を付着 ■付着した鉄粉はウエスなどで簡単に除去 ■フィルターバッグ内に吊下げるだけで装着が簡単 ■マグネケースはめっき槽内の何処にでも設置が可能 ■マグネユニットは付着量が多く効率的 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...
メーカー・取り扱い企業: トクシュ技研株式会社
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