各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

コンベア式エッチング装置

お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能で…

【特長】 ■対応ワーク　100mm角～1000mm角まで対応可能。（他のサイズ、形状は別途相談） ■揺動機構（水平揺動・スプレーノズル首振り）を付けることにより、処理効率を向上させます。 ■カセットtoカセット対応も可能。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off

自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…

ウェハ（基板）をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット（キャリア）でセットをすることはできませんが、マニュアルと違いウェハ1枚1枚を自動搬送するので、偏心や位置ズレの心配がありません！ ドライイン・ドライアウトで処理に関して作業者に薬液の付着の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

枚葉式ウエハ処理装置『自動レジスト塗布現像装置』

高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

トを設置し、ローダー、アンローダーも備えています。 【特長】 ○2インチから18インチのウエハ及び300mm□基板が対象 ○ローダーより多関節ロボットを使用 ○各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

自動現像/エッチング装置

簡単操作のCtoCロボット搬送付き現像/エッチング装置。用途によりデベ…

スピン・スプレー方式現像/エッチング装置に搬送ロボットを搭載することにより、セットされた基板カセットから自動的にローダー・アンローダーを行い連続処理を行ないます。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

枚葉式ウエハ処理装置『自動ウエハレジスト塗布装置』

高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

の塗布を行います。 また、レジストの他、接着剤の塗布、保護膜の塗布等にも使用出来ます。 ウエハの搬送は装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し、ローダー、アンローダーはFOUPまたはカセット式が有ります。 【特長】 ○2インチから18インチのウエハ及び300mm□基板が対象 ○ローダーより多関節ロボットを使用 ○各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理 詳しく...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ