各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8…

『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【研究施設】乾式排ガス処理装置　低濃度用活性炭ユニット　CLH

コンパクトで低コスト仕様。

○有機系ガス用、酸性ガス用、アルカリ性ガス用のカセットを併用することで、混合ガスの除去も可能です。 ○本体ケーシングの材質は、スチール、ステンレス、塩化ビニールなど、流入ガスの種類により選択可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

【研究施設】乾式排ガス処理装置　低濃度用活性炭ユニット　CLV

小さな圧力損失。低コスト仕様。

○有機系ガス用、酸性ガス用、アルカリ性ガス用のカセットを併用することで、混合ガスの除去も可能です。 ○本体ケーシングの材質は、スチール、ステンレス、塩化ビニールなど、流入ガスの種類により選択可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン