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PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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【研究施設】乾式排ガス処理装置 低濃度用活性炭ユニット CLH
コンパクトで低コスト仕様。
○有機系ガス用、酸性ガス用、アルカリ性ガス用のカセットを併用することで、混合ガスの除去も可能です。 ○本体ケーシングの材質は、スチール、ステンレス、塩化ビニールなど、流入ガスの種類により選択可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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【研究施設】乾式排ガス処理装置 低濃度用活性炭ユニット CLV
小さな圧力損失。低コスト仕様。
○有機系ガス用、酸性ガス用、アルカリ性ガス用のカセットを併用することで、混合ガスの除去も可能です。 ○本体ケーシングの材質は、スチール、ステンレス、塩化ビニールなど、流入ガスの種類により選択可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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