• DDS機能を搭載した任意波形発生器『AWG』 製品画像

    DDS機能を搭載した任意波形発生器『AWG』

    PRQuantum Computingに好適!信号生成アプリケーションに有…

    『AWG』は、発生する信号を、直接qubitに印可または、AOM、AOD、EOMに 印可してレーザ制御を行うことにより、qubit内の量子操作とqubitの状態の 読み出し処理ができる任意波形発生器です。 DDS(Direct Digital Synthesis)機能を備えており、デバイスを簡単な コマンドで高速に制御できるため、高速かつ複雑な各種量子操作が可能。 また、qubi...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エレクトロニカIMT事業部

  • アドバンスト電動ドライバー『KL-TCC/SGT-CC』 製品画像

    アドバンスト電動ドライバー『KL-TCC/SGT-CC』

    PR角度エンコーダー・DCサーボモーター搭載、電流制御でトルクの締め分けが…

    『KL-TCC/SGT-CC』は、角度エンコーダーを搭載した電流制御式の アドバンスト電動ドライバーです。 ある一定のトルクが掛かった時点で角度の計測を始めるため、確度の 高い締付け不良検出を実現。 締め付けトルク等をJOBに登録でき、締め付け結果と同時に部品番号も 記録可能です。また、トルク/回転速度等の可変は「バーコード」 「専用ソフト」「イーサネット」で切替えできます。 ...

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    • 2_JOBフロー(KL-TCC).png
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    メーカー・取り扱い企業: キリウスジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】 製品画像

    光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

    耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

    焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse) ■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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