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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』
PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…
『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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技術資料ULVAC TECHNICAL JOURNAL No79
無料プレゼント中!真空に関する最新技術資料 No.79です。【アルバッ…
ULVAC TECHNICAL JOURNAL No.79は、真空に関する最新技術資料です。 大型スパッタカソードにおけるIGZO成膜技術や、結晶太陽電池向けイオン注入装置の開発、OLED用薄膜封止装置 CEE-950の開発、リークディテクタ HELIOT900シリーズの開発、マグネットカップリング搭...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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【書籍】透明導電膜有力材料の実力とプロセス技術、実用・製品化
より低コスト、高性能な透明導電膜を<作る・使う>ための最新技術集成
究開発の最前線 酸化亜鉛 グラフェン CNT 銀ナノワイ PEDOT …etc ◆ 高品質成膜、大面積、量産化目的に応じたプロセス技術 水熱法 ソルボサーマル法 大面積・量産スパッタリング ECRスパッタ法 RPD法 CVD法 ロールtoロール インクジェット法 塗布形成 エレクトロスプレーデポジション法 …etc ◆ 乾式・湿式に応じた成膜材料 ターゲット ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社情報機構
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3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』
【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速…
株式会社アマダ(アマダグループ) -
オーダーメイド型スパッタリング成膜装置
難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに…
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社 -
【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社