リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

圧力勾配式スパッタ装置『PGS model』

低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能な装置についてご紹介…

『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果の製品と なっておりま...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＴＫ

電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。

マグネトロンスパッタ装置　ＭＳＰ－２０－ＴＫは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のタングステンコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

マルチ成膜装置VEＳ－１０

親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。

マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了まで自動で行なえま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

圧力勾配式スパッタ装置　高品質薄膜を高ルートで形成可能

『PGS model』は低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが…

『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果の製品と なっておりま...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。 また新開発...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

　　　　１源装備　 　　　：基板加熱機構標準装備 　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱 主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用） 全自動化 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多種金属対応！業界最小クラスの超コンパクトコーターです。

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

「SC-701Mk II ADVANCE」は、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックコンパクトコーターです。 DCスパッタのカテゴリーの内でシリーズ最小の超コンパクトモデルです。 各種金属の薄膜作製を、コンパクトで使いやすい装置で手軽に行なえます。 【特徴】 ○真空計を装備し、成膜条件の再現性を確保 ○ス...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

新対向ターゲットスパッタリング（NFTS）装置

超伝導薄膜応用分野やMEMS応用分野などに！低ダメージ・低温成膜で有機…

新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering：NFTS）技術は 高密度プラズマを箱型空間に拘束することにより、堆積基板へのエネルギー種 （反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トヤマ

イオン銃『OMI-0850 series』

大電流のイオンビームを長時間安定的に照射可能！精密素子等の加工時間を短…

のニュートラライザーをオプションで 搭載可能とし、絶縁物の加工も可能です。 また、IBF(Ion Beam Figuring)はもちろん、細かく収束制御されたビームは IBSイオンビームスパッタ成膜にも対応できます。 【特長】 ■nmオーダーの超精密加工ができる ■RF励起方式 ■IBSイオンビームスパッタ成膜にも対応 ■独自のニュートラライザーをオプションで搭載可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オメガトロン

電磁石型コールドカソードイオン銃『OMI-0015CKE』

収束ビームとブロードビームの2タイプをご用意！放電電極に対スパッタ性の…

【その他特長】 ■放電電極に対スパッタ性のレアメタルを採用 ■Ar、He等の不活性ガスはもちろん、水素、酸素、窒素、メタン、ブタン等のガスを 　イオンビームにできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オメガトロン

IB-19530CPクロスセクションポリッシャ 断面試料作製装置

機能ホルダーを交換することで多機能化を実現

るべく、マルチパーパスステージを採用し、各種機能ホルダーを交換することで多機能化を実現しました。 用途に応じた機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、イオンビームスパッタコーティングなどの機能が拡張できます。 〇特長 ・自動加工プログラム ・マルチパーパスステージ ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置

驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタ…

当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。 マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、 緻密で硬い、平滑な...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店