• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 電線様化学架橋性PVCコンパウンド NIPPI LINKER 製品画像

    電線様化学架橋性PVCコンパウンド NIPPI LINKER

    架橋のための大規模な照射設備が不要で、加熱変形率や耐摩耗性が良好な化学…

    耐熱性や耐溶剤性に優れ、電線やマスキングフィルム等として使用されております。 特長としては以下の通りです。 ・大規模な照射設備が不要 ・加熱変形率、耐摩耗性、カットスルー性、耐ハンダ性、耐スパッタ性が良好 ・照射架橋と比較して形状の制約が無い ・架橋による色の劣化が少ない ・非重金属配合、RoHS2.0対応...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッピ バイオ・ケミカル事業部

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