リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』

PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…

『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

フラットミリングとSEM観察

フラットミリングとSEM観察

めっき表面とはんだの 境界面の状況がより緻密に観察できます。 【特徴】 ○アルゴンイオンの均一な照射によってSEM観察にも耐える完璧な覆面仕上が可能です。 ○5mm径の広い範囲を均一にスパッタエッチングでき、50nm/min(Cu)の高いミリングレートで処理します。 ○安定した放電電流（2～6kV）によって再現性のよい試料を提供できます。 ○光学顕微鏡に比べ分離機・焦点深度に優れ、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

クラスター真空成膜・評価装置紹介

測定・研究したい要素をそのまま！お客様のニーズに合致させることが可能な…

『クラスター真空成膜システム』は、試料自動搬送システム、サンプル交換室、 サンプルストッカー室、スパッタ室に加え誘電率・磁性測定、ホール測定装置 などの分析機を備えた評価室から構成されます。 また、中央の試料自動搬送チャンバーは、各成膜室ならびに分析室と接続。 試料を真空中でロボット搬送し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

『X線光電子分光（XPS）分析』

軟X線を照射！基板や回路等の定性・半定量分析にも最適な光電子分光分析！

します。 試料を構成している元素と組成（定性分析・半定量分析）、元素の化学状態 （状態分析）を調べることができます。 検出される情報は、試料の極表面層（数nm）のものであり、Ar イオンスパッタ リングを組み合わせることで、深さ方向の測定を行うこともできます。 励起源が軟X線のため、導通がない試料の測定も可能です。 【適用対象】 ■金属全般 ■セラミックス ■半導体 ■...

メーカー・取り扱い企業： コベルコ溶接テクノ株式会社