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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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大型基板の自動搬送に対応し、研究開発~量産までの応用が可能な装置です。…
大型基板の自動搬送に対応したロードロック式スパッタリング装置です。 【主な特長】 ・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能 (角基板の対応も可能です。) ・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの 広範囲...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能
PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダ...
メーカー・取り扱い企業: 大村技研株式会社
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3次元実装サービス(TSV技術等による実装サービス)
。 1枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス スパッタ法で4,5,6,8インチに対応 ・Siディープエッチングサービス 2~12インチに対応します ・100℃以下の低温CVD膜付けサービス 2~6インチに対応します。 ・8イ...
メーカー・取り扱い企業: 日本MEMS株式会社
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消費者の動向から地球環境を考えたビジネス!企画・開発・提案力を重視!
■真空成型トレイ ■初期確認用モデリング製作(トレイなど) ■低発塵・RoHS規制対応 結束バンド 他 〔その他〕 ■光学ガラス加工 ■ガラス非球面レンズ ■各種薄膜加工(真空蒸着、スパッタ) 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社