リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』

PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…

『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ

重要なプロセスにおける完全なコントロール！最大限のスパッタ率が確保され…

ことが可能。豊富な周波数ラインアップにより、 様々なプロセスで活用いただけます。 【主な利点】 ■高い反応速度とそれに対応する残留エネルギーの低減により、 　安定したプロセスと最大限のスパッタ率が確保される ■フレキシブルな冷却コンセプト ■独自技術"イグニッションサポート"技術により、効果的なプラズマ点火 ■豊富な周波数ラインアップにより、様々なプロセスで活用可能 ※詳し...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

半導体製造装置用電源『GEXUS』

マスタースレーブ運転により、大出力化が可能！15kWスパッタ用直流電源…

『GEXUS』は、半導体成膜（スパッタ）用の電源です。 多段インバータ方式採用により、極めて少ないアークエネルギーを実現。 ワイドレンジインピーダンスで、進化する高性能、高信頼性を有しています。 ユニット単体出力は1.5...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オリジン エレクトロニクス事業

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電...

メーカー・取り扱い企業： メンテナンス･リサーチ株式会社