デベロッパー | イプロスものづくり

高品質・低価格・省スペースを追求スイングスプレー式、パドル方式の両…

6インチウエハ対応の小型スピン現像装置。スイング式ノズルによるスプレー現像の他、パドル現像も行なえます。プログラム入力により現像→リンス→振り切りの一連動作を連続して行なうセミオート方式デベロッパーです。...

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

枚葉式フォトレジスト現像装置です。パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！また、厚膜レジスト現像～微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載（オプション：全面露光ユニット）マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたライ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

枚葉式で現像、全面露光（反転露光、イメージリバーサル）、ベーク、クーリング機能を搭載。リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定させます！また、ネガレジストの露光後ベークに使用することで安定プロセスが得られます。マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、設計から製造・販売まで自社で行ってい...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

当製品は、枚葉式のマニュアル現像機です。薬液BOXと処理カップ部分の本体が一緒になったコンパクト仕様です。マニュアル機をお客様のニーズに合わせて設計から製造・販売しています。研究開発目的としてだけでなく少量多品種の製品を扱うお客様にご利用いただいております。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。【特長】 ■低価格を実現 ■コンパクト！ ■パドル、1流体スプ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

小型実験機で高精度を実現　スリット式塗布装置　リサーチコータ

様々な塗布条件や材料に柔軟に対応、高精度な塗布均一性を実現したコンパク…

液晶や有機ELディスプレー製造工程の要となる『コーターデベロッパー』は、最大で約3m角の巨大なガラス基板に薬液を高速かつ１マイクロメートルレベルで均一に塗布現像する装置で、当社は世界トップシェア（※）を獲得しています。（※アレイ用コータ―デベロッパー、2022...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

小型現像装置

スプレー及びパドル現像が行なえる、小型卓上タイプのスピンデベロッパー

現像→リンス→振り切り等を任意設定のプログラムにより連続処理が行なえるスピンデベロッパー。プログラムは最大99ステップ×50パターン保存可能。スプレーとパドルが1台で行なえる。...

メーカー・取り扱い企業：アクテス京三株式会社技術センター

株式会社ナノテック　『会社案内』

“ナノテクの世界を創造する技術開発型企業”株式会社ナノテック

株式会社ナノテックは、半導体製造装置（マスクアライナー、スピンナー、デベロッパー、洗浄機）、MEMS（マイクロマシン）の研究開発、各種ツールの開発・製造などをおこなっております。専門分野は、光学関連精密機械（開発設計、機械加工、組立製作、販売）、産業分野は半導体製造装置、精...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノテック

小型で高精度！スリットコータ『リサーチコータ』LC-R400G

企業や大学の研究室等での実験用途に！様々な塗布条件や材料に対応し、高精…

液晶や有機ELディスプレー製造工程の要となる『コーターデベロッパー』は、最大で約3m角の巨大なガラス基板に薬液を高速かつ１マイクロメートルレベルで均一に塗布現像する装置で、当社は世界トップシェア（※）を獲得しています。（※アレイ用コータ―デベロッパー、2022...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

ラボ用、高精度スリットコータ『リサーチコータ』LC-R300G

企業や大学の研究室等での実験用途に！様々な塗布条件や材料に対応し、高精…

液晶や有機ELディスプレー製造工程の要となる『コーターデベロッパー』は、最大で約3m角の巨大なガラス基板に薬液を高速かつ１マイクロメートルレベルで均一に塗布現像する装置で、当社は世界トップシェア（※）を獲得しています。（※アレイ用コータ―デベロッパー、2022...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

自動現像/エッチング装置

簡単操作のCtoCロボット搬送付き現像/エッチング装置。用途によりデベ…

用途、ご予算に応じてカスタマイズできますのでお問合せ下さい。又、搬送機構を持たない汎用機もございます。...スピン・スプレー方式現像/エッチング装置に搬送ロボットを搭載することにより、セットされた基板カセットから自動的にローダー・アンローダーを行い連続処理を行ないます。...

メーカー・取り扱い企業：アクテス京三株式会社技術センター

保守・メンテナンスサービス

半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

＜対応実績＞ CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など詳しくは、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研

φ300mm（12インチ）ウェハー用全自動両面露光装置

各工程インテグレードで効率生産！！！

<特徴> MLCSP、Ｃ-MOSno裏面配線用両面アライメント露光装置です。エンバイロメント（Foup）を装備し、GEM300、OHTも対応スピンコーター、デベロッパーもインテクレード可能、レジストコートから露光、現像まで全自動でパターニングが可能（オプション）レチクル自動交換（オプション） ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社清和光学製作所

半導体製造装置移設・立ち上げ・機能改善サービス

半導体製造装置の技術サービスはお任せ下さい。

特にステッパー、コーター・デベロッパーについては豊富な経験と実績により顧客数が拡大しております。投資予算が確保できずお困りになっている方がいらっしゃいましたらどうぞ弊社へご一報下さい。ご予算以上の成果を提供させて頂きます。...

メーカー・取り扱い企業：エヴァンリード株式会社

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

エハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化） ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ【ASAPのコーター・デベロッパー機能】 ●スピンコーティング ●HMDS処理 ●ベーク ●クーリング ●現像 ●リンス設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！【ASAPの特...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。マニュアル機～フルオート...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

1流体スプレー方式の現像装置です。現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。大型基板や厚膜の現像に最適です。スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。マニュアル機～フルオート機まで生産量に合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

枚葉式でウエハ上に現像液を液盛りして現像を行います。ディップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に繋がります。液盛り方法もシャワータイプからストレートノズルなどご要望にお応えできます。静止現像中の揺動機能も搭載！（低回転と停止を繰り返して液を動かします）枚葉式で現像、、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ