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PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。
ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...
メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社
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PRマルチノズルを実現! 研究開発向け静電塗工装置
静電スプレーの最大の課題である塗工スピードの遅さを克服した、マルチノズル方式の静電塗工装置MESシリーズ。 その第一弾として、研究開発用途に適したMES-Labをご提供します。...【静電塗工装置 MES-Labの特徴】 ・静電スプレーによる高品質な膜形成 ・山梨大学 ナノ材料研究センターとの共同開発で生み出された、独自の静電スプレー制御システム ・マルチノズル化による塗工速度の向上 ・テ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メイコー
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■レーザー■ピコ秒レーザー用■ナノ秒レーザー用■フェムト秒レーザー用■…
R. HR. HT等) 波長帯域192-2940nm ●ピコ秒レーザー用 オプティクス Layertec社ピコ秒(ps)レーザーオプティクス 波長帯域257-2940nm ●ナノ秒レーザー用 オプティクス Layertec社ナノ秒(ns)レーザーオプティクス 波長帯域157-2940nm ●フェムト秒レーザー用 オプティクス Layertec社フェムト秒(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトロンサイエンス
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IBSコート光学系 ::::: UV波長高出力対応レーザーミラー
IBSコーティングにより高エネルギーのUVレーザーにもダメージを受けに…
> 0.27 J/cm2, 343 nm,1 ps, 50 kHz, p-pol > 0.52 J/cm2, 343 nm,1 ps, 50 kHz, s-pol 2)355 nm・ナノ秒 > 6.97 J/cm2, 355 nm, 6 ns,100 Hz, p-pol > 9.6 J/cm2, 355 nm, 6 ns,100 Hz, s-pol 3)355 ...
メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社
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『OPIE’16』inパシフィコ横浜 出展決定!
・セミナー> 〇レーザーEXPO 〇レンズ設計・製造展 〇赤外・紫外応用技術展 〇光測定・ポジショニングEXPO 〇メディカル&イメージングEXPO 〇宇宙・天文EXPO 〇マイクロ・ナノ応用技術展 皆様のご来場を心よりお待ち致しております!...
メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社
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GSアライアンス株式会社 冨士色素株式会社 内 -
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有限会社オルテコーポレーション 本社 -
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株式会社進和 戦略営業推進室